粘合剂组合物
    1.
    发明公开
    粘合剂组合物 审中-实审

    公开(公告)号:CN113874455A

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN202080038354.9

    申请日:2020-03-19

    Abstract: 提供一种带粘合剂层的光学膜,其在对层叠有粘合剂层和光学膜的带粘合剂层的光学膜进行长期保管时具有良好的耐渗出性。另外,提供具有良好的耐渗出性的粘合剂层、以及能够形成该粘合剂层的粘合剂组合物。一种粘合剂组合物,其包含树脂(A)、在分子内具有部花青结构和聚合性基团的光选择吸收化合物(B)和光引发剂(D)。该粘合剂组合物还可以进一步包含光固化性成分(C)。

    光学膜
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110799867B

    公开(公告)日:2022-09-13

    申请号:CN201880042849.1

    申请日:2018-06-21

    Abstract: 提供一种光学膜,其具有良好的抑制劣化功能,其通过对于紫外线和波长405nm附近的短波长的可见光显示高吸收选择性,由此良好地抑制相位差膜或有机EL发光元件的因紫外线和短波长的可见光所导致的劣化。一种光学膜,其包含满足下述式(1)的光选择吸收层A和满足下述式(2)的光选择吸收层B。A(350)≥0.5(1);A(405)≥0.5(2)[式(1)中,A(350)表示波长350nm时的吸光度。式(2)中,A(405)表示波长405nm时的吸光度]。

    光学膜
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110799867A

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201880042849.1

    申请日:2018-06-21

    Abstract: 提供一种光学膜,其具有良好的抑制劣化功能,其通过对于紫外线和波长405nm附近的短波长的可见光显示高吸收选择性,由此良好地抑制相位差膜或有机EL发光元件的因紫外线和短波长的可见光所导致的劣化。一种光学膜,其包含满足下述式(1)的光选择吸收层A和满足下述式(2)的光选择吸收层B。A(350)≥0.5(1);A(405)≥0.5(2)[式(1)中,A(350)表示波长350nm时的吸光度。式(2)中,A(405)表示波长405nm时的吸光度]。

    粘合剂组合物和带粘合剂层的膜

    公开(公告)号:CN110799616A

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201880042850.4

    申请日:2018-06-21

    Abstract: 本发明提供一种粘合剂组合物,其具有良好的抑制劣化功能,良好地抑制相位差膜、有机EL发光元件的从紫外线至400nm附近的短波长的可见光所导致的劣化。一种粘合剂组合物,其包含式(I)所示的化合物。式(I)中,R1和R5各自独立地表示氢原子、碳数为1~25的烷基、碳数为7~15的芳烷基、碳数为6~15的芳基、杂环基。R1A表示氢原子或碳数为1~6的烷基。R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的碳数为1~6的烷基、芳香族烃基或芳香族杂环基。R6和R7各自独立地表示氢原子、碳数为1~25的烷基或吸电子性基团。

    光学层叠体
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106990472A

    公开(公告)日:2017-07-28

    申请号:CN201611233280.6

    申请日:2016-12-27

    Abstract: 本发明提供一种光学层叠体,所述光学层叠体由于对400nm附近的短波长的可见光显示高吸收选择性,因而具有高耐光性,并且在用于显示装置时可赋予良好的显示特性。一种光学层叠体,其包含至少一个偏振板和至少一个粘合剂层,所述光学层叠体满足下述式(1)和(2)。A(400)≥0.5 (1)A(420)/A(400)≤0.3 (2)(式中,A(400)表示在偏振板的透射方向的波长400nm下的光学层叠体的吸光度,A(420)表示在偏振板的透射方向的波长420nm下的光学层叠体的吸光度)。

    化合物
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113490660B

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202080017139.0

    申请日:2020-02-21

    Abstract: 式(I)所示的化合物。#imgabs0#式(I)中,R3、R4和R5各自独立地表示吸电子基团。R1、R2、R6和R7各自独立地表示氢原子、杂环基、卤素原子、硝基、氰基、羟基、巯基、羧基、-SCF3、-SF5、-SF3、-SO3H、-SO2H、任选具有取代基的碳数1~25的脂肪族烃基或者任选具有取代基的碳数6~18的芳香族烃基。R1和R2、R1和R6、R6和R7、R4和R5各自任选相互连结而形成环。

Patent Agency Ranking