公开(公告)号：CN103317230A

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：CN201310041951.9

申请日：2013-02-01

申请人： 住友重机械工业株式会社

发明人： 首藤和正

IPC分类号： B23K26/06 ,  B23K26/04

CPC分类号： B23K26/0652 ,  B23K26/0661 ,  B23K26/073 ,  G02B27/0927 ,  G02B27/0961 ,  G02B27/0966 ,  G02B27/0972 ,  H01L21/268

摘要： 本发明提供一种激光加工装置及激光加工方法，其能够降低工件距离的变动对加工品质带来的影响。从激光光源射出的激光束入射于均匀化光学系统。均匀化光学系统使激光束在加工对象物上入射于在第1方向上较长的长条形状的区域。在均匀化光学系统与加工对象物之间的激光束的路径上配置有倾斜光学元件。倾斜光学元件形成相对于加工对象物的表面向与第1方向正交的方向倾斜的折射率界面。

公开(公告)号：CN105209954B

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201380024536.0

申请日：2013-06-28

申请人： 住友重机械工业株式会社

发明人： 首藤和正

IPC分类号： G02B19/00 ,  G02B27/09 ,  H01L21/268 ,  H01L29/66 ,  H01S5/40

CPC分类号： G02B27/123 ,  G02B19/0057 ,  G02B27/0927 ,  G02B27/0961 ,  H01L21/268 ,  H01L21/324 ,  H01L29/66348 ,  H01S5/02284 ,  H01S5/4012

摘要： 本发明提供一种激光照射装置。激光二极管沿快轴及慢轴方向二维配置，从而构成半导体激光振荡器。从半导体激光振荡器射出的激光束入射到均化器。均化器在被照射面使激光束聚光到长条的入射区域。均化器在入射区域的短轴方向将激光束分割成多个射束，使被分割的多个射束在被照射面重合并入射到入射区域。半导体激光振荡器的慢轴方向相对于入射区域的长轴方向倾斜。

公开(公告)号：CN105209954A

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：CN201380024536.0

申请日：2013-06-28

申请人： 住友重机械工业株式会社

发明人： 首藤和正

IPC分类号： G02B19/00 ,  G02B27/09 ,  H01L21/268 ,  H01L29/66 ,  H01S5/40

CPC分类号： G02B27/123 ,  G02B19/0057 ,  G02B27/0927 ,  G02B27/0961 ,  H01L21/268 ,  H01L21/324 ,  H01L29/66348 ,  H01S5/02284 ,  H01S5/4012

摘要： 本发明提供一种激光照射装置。激光二极管沿快轴及慢轴方向二维配置，从而构成半导体激光振荡器。从半导体激光振荡器射出的激光束入射到均化器。均化器在被照射面使激光束聚光到长条的入射区域。均化器在入射区域的短轴方向将激光束分割成多个射束，使被分割的多个射束在被照射面重合并入射到入射区域。半导体激光振荡器的慢轴方向相对于入射区域的长轴方向倾斜。