一种应用于3D打印机的油墨进料装置

    公开(公告)号:CN214687963U

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN202022532325.8

    申请日:2020-11-05

    Abstract: 本实用新型公开了一种应用于3D打印机的油墨进料装置,包括打印机外壳,所述打印机外壳内壁设有送料机和挡板,所述挡板内设有电机槽,所述电机槽内壁固定连接有转动电机,所述转动电机的输出轴通过连接块固定连接有蜗杆,所述蜗杆远离连接块的一端与电机槽内壁转动连接,所述电机槽内壁转动连接有转动杆,所述转动杆贯穿电机槽的侧壁,所述转动杆与电机槽侧壁的连接处密封转动连接,所述转动杆远离电机槽的一端固定连接有托板。本实用新型可以将不同尺寸的打印材料卷筒固定在托板上,然后通过托板的转动,缓慢的释放打印材料,降低了送料机的压力,保护了送料机,而且将打印材料放在打印机内部,避免了沾染灰尘。

    一种用于转子系统的故障诊断工作台

    公开(公告)号:CN216082013U

    公开(公告)日:2022-03-18

    申请号:CN202122798865.5

    申请日:2021-11-16

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于转子系统的故障诊断工作台,所述安装工作台底端中部固定连接有连接架,所述安装工作台顶部一侧边部开设有安装槽口,所述安装槽口内侧底端中部嵌入安装有安装滑盒,所述安装滑盒内侧中部转动连接有调节螺杆,本实用新型通过螺栓将辅助检测装置安装到安装滑板顶部,通过扭动转动钮带动调节螺杆进行转动,在调节滑杆的滑动过程中同步带动安装滑板进行滑移,进而通过安装滑板的滑动带动其顶部的辅助检测装置进行移动,使辅助检测装置可以快速的与待检测转子进行对齐,优化了辅助检测装置的安装过程,使辅助检测装置安装起来更加便捷,有效的提高了转子的检测效率。

    一种应用于机械设计加工用新型夹具

    公开(公告)号:CN215942142U

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202122530394.X

    申请日:2021-10-19

    Abstract: 本实用新型涉及机械加工设备技术领域,且公开了一种应用于机械设计加工用新型夹具,包括底座箱,所述底座箱的内部开设有第一空腔,所述第一空腔的内部分别固定安装有第一隔板与第一电机,所述第一电机固定安装在相邻两个第一隔板之间,所述第一电机的输出轴端固定安装有齿轮,本实用新型通过第一电机的工作转动带动齿轮转动,而齿轮转动时会通过齿条板带动滑动块在滑动柱上滑动,这样滑动块运动时会通过第二支撑柱与连接板带动第一支撑柱运动,而通过第一支撑柱内部第二电机的配合使用,伸缩柱会带动调节箱改变高度,以及改变相邻两个调节箱之间的距离,从而达到可以根据需求调节夹具的高度与间距。

    水射流辅助激光蚀刻加工单晶硅装置

    公开(公告)号:CN215941865U

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202122644553.9

    申请日:2021-11-01

    Abstract: 本实用新型公开了水射流辅助激光蚀刻加工单晶硅装置,包括主喷射管,主喷射管的外侧安装有压力表,主喷射管的进水端连接有脉冲阻尼器,脉冲阻尼器的进水端连接有分流端口,分流端口的进水端连接有进水软管,主喷射管的外侧套接有固定环,固定环的外侧连接有连接杆,连接杆的一端转动连接有喷头夹盘,喷头夹盘的内侧开设有卡接槽,卡接槽的内侧嵌入有喷头,通过将限位螺帽拧松,在连接杆的外侧快速的转动喷头夹盘,将需要使用的喷头拧紧到螺纹连接槽的内侧,从而完成替换,替换过程简单方便,从而可以使不同的待蚀刻物使用合适规格的喷头进行水射辅助,不仅提高了工作效率,更加提升了激光蚀刻的成功率。

    一种激光掩膜的脉冲电解设备

    公开(公告)号:CN215799958U

    公开(公告)日:2022-02-11

    申请号:CN202122581854.1

    申请日:2021-10-26

    Abstract: 本实用新型公开了一种激光掩膜的脉冲电解设备,上升电推杆顶端固定安装有支撑绝缘板,分离盒内侧焊接有支撑承重板,支撑承重板一端卡接连接有滑动推动板,电镀盒顶端固定安装有匚型固定架,下压电推杆底端固定安装有防护绝缘板,防护绝缘板底端安装有激光脉冲器,将金属板放置到分离盒内侧,由分离盒和支撑承重板对金属板进行限位支撑,保证了放置的稳定性,由下压电推杆带动防护绝缘板将激光脉冲器带动到分离盒位置处,由激光脉冲器输出脉冲电解激光对金属板表面进行电解电镀,通过控制脉冲激光的脉冲速度使得在需要掩膜时可以快速的控制电解电镀的速度,将多个金属相互分离避免在电镀掩膜时相互影响。

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