公开(公告)号：CN115576174A

公开(公告)日：2023-01-06

申请号：CN202210699167.6

申请日：2022-06-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 井上真由美 ,  见目敬 ,  盐足吉彬 ,  琴谷昇平

IPC: G03G9/093 ,  G03G9/08

Abstract: 本发明涉及调色剂。一种调色剂，其包括调色剂颗粒，其中调色剂颗粒具有包括核颗粒和在核颗粒的表面上的壳的核‑壳结构，壳包括具有由下式(I)表示的单体单元的聚合物，调色剂包括特定的外部添加剂A，外部添加剂A为选自由二氧化硅细颗粒和有机硅聚合物细颗粒组成的组中的至少一种，并且外部添加剂A对调色剂颗粒的表面的被覆率为0.3面积％以上：式(I)中，L1表示‑COO(CH2)n‑(其中n为1至10的整数)，并且L1的羰基结合至主链的碳原子；R1表示氢或甲基；并且R2至R10各自独立地表示具有1至4个碳原子的烷基。

公开(公告)号：CN117406569A

公开(公告)日：2024-01-16

申请号：CN202310860729.5

申请日：2023-07-14

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 琴谷昇平 ,  见目敬 ,  盐足吉彬 ,  井上真由美 ,  浦谷梢

IPC: G03G9/087 ,  G03G9/093

Abstract: 本发明涉及调色剂。一种包括调色剂颗粒的调色剂，调色剂颗粒包含：粘结剂树脂和蜡；其中，调色剂颗粒具有调色剂核颗粒和存在于调色剂核颗粒的表面上的凸部，凸部包含有机硅聚合物，在调色剂颗粒的截面观察中，连接调色剂核颗粒和凸部之间的界面的两端的线段定义为基准线，并且基准线的长度由W(nm)表示，并且在基准线的法线方向上凸部的从基准线起在调色剂核颗粒方向上的最大长度定义为最大侵入深度I(nm)，W和I满足I/W≤0.050，并且凸部E1的杨氏模量为1.00～3.90GPa。

公开(公告)号：CN114488726A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202111226265.X

申请日：2021-10-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 琴谷昇平 ,  见目敬 ,  丰泉悟崇 ,  盐足吉彬 ,  井上真由美

IPC: G03G9/08

Abstract: 本发明涉及调色剂。一种调色剂，其包括调色剂颗粒，该调色剂颗粒包含粘结剂树脂，其中调色剂颗粒包含有机硅化合物的缩合产物，在调色剂颗粒的飞行时间二次离子质谱中，源自有机硅化合物的缩合产物的硅离子的归一化强度为7.00×10‑4以上且3.00×10‑2以下，在特定条件下溅射调色剂颗粒后的硅离子的归一化强度为6.99×10‑4以下，调色剂包括在调色剂颗粒的表面的细颗粒，并且细颗粒具有选自由特定的多元酸金属盐细颗粒、钛酸锶细颗粒、氧化钛细颗粒和氧化铝细颗粒组成的组中的至少一种。