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公开(公告)号:CN103876761A
公开(公告)日:2014-06-25
申请号:CN201410089754.9
申请日:2009-10-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G06T7/0002 , A61B6/4291 , A61B6/484 , G01J9/02 , G01N23/04 , G01N23/20075 , G01N2223/401 , G21K1/06 , G21K2201/06 , G21K2201/067
Abstract: 公开了能够至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。X射线成像装置包括相位光栅(130)、吸收光栅(150)、检测器(170)和算术单元(180)。算术单元(180)执行通过对于由检测器获取的波纹图案的强度分布的傅立叶变换来获取空间频率谱的傅立叶变换处理。算术单元还执行使与载波频率对应的谱与由傅立叶变换处理获取的空间频率谱分离并然后使用逆傅立叶变换来获取微分相位图像的相位恢复处理。
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公开(公告)号:CN102047344B
公开(公告)日:2013-11-06
申请号:CN200980112851.2
申请日:2009-04-13
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G21K1/025 , G21K7/00 , G21K2207/005
Abstract: 提供用于X射线等的源光栅,所述用于X射线等的源光栅可增强空间相干性并且被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅被放置在X射线源和被检对象之间,并被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅包含由以恒定的间隔(A′)周期性地布置的突出部分形成的多个子光栅(130、120),所述突出部分各自具有屏蔽X射线(110)的厚度(140)。通过使多个子光栅进行偏移(1/2A′)来多层地层叠所述多个子光栅。
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公开(公告)号:CN102197303A
公开(公告)日:2011-09-21
申请号:CN200980142837.7
申请日:2009-10-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G06T7/0002 , A61B6/4291 , A61B6/484 , G01J9/02 , G01N23/04 , G01N23/20075 , G01N2223/401 , G21K1/06 , G21K2201/06 , G21K2201/067
Abstract: 公开了能够至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。X射线成像装置包括相位光栅(130)、吸收光栅(150)、检测器(170)和算术单元(180)。算术单元(180)执行通过对于由检测器获取的波纹图案的强度分布的傅立叶变换来获取空间频率谱的傅立叶变换处理。算术单元还执行使与载波频率对应的谱与由傅立叶变换处理获取的空间频率谱分离并然后使用逆傅立叶变换来获取微分相位图像的相位恢复处理。
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公开(公告)号:CN103876761B
公开(公告)日:2016-04-27
申请号:CN201410089754.9
申请日:2009-10-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G06T7/0002 , A61B6/4291 , A61B6/484 , G01J9/02 , G01N23/04 , G01N23/20075 , G01N2223/401 , G21K1/06 , G21K2201/06 , G21K2201/067
Abstract: 公开了能够至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。X射线成像装置包括相位光栅(130)、吸收光栅(150)、检测器(170)和算术单元(180)。算术单元(180)执行通过对于由检测器获取的波纹图案的强度分布的傅立叶变换来获取空间频率谱的傅立叶变换处理。算术单元还执行使与载波频率对应的谱与由傅立叶变换处理获取的空间频率谱分离并然后使用逆傅立叶变换来获取微分相位图像的相位恢复处理。
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公开(公告)号:CN102047344A
公开(公告)日:2011-05-04
申请号:CN200980112851.2
申请日:2009-04-13
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G21K1/025 , G21K7/00 , G21K2207/005
Abstract: 提供用于X射线等的源光栅,所述用于X射线等的源光栅可增强空间相干性并且被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅被放置在X射线源和被检对象之间,并被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅包含由以恒定的间隔(A′)周期性地布置的突出部分形成的多个子光栅(130、120),所述突出部分各自具有屏蔽X射线(110)的厚度(140)。通过使多个子光栅进行偏移(1/2A′)来多层地层叠所述多个子光栅。
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