喷墨记录装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1070421C

    公开(公告)日:2001-09-05

    申请号:CN95116816.9

    申请日:1995-09-01

    Inventor: 大山一夫

    CPC classification number: B41J13/103 B41J11/005 B41J11/08

    Abstract: 一种喷墨记录装置,通过向在记录区域的记录介质上喷墨进行记录的方式,包括送进记录介质至记录区域的装置,并具有一机构,能在横向于供页的方向上使记录介质具有凸凹不平的形状,因此,当用喷墨记录装置记录图象时,能减小因油墨渗入记录介质而形成的各个折皱,并可靠地使折皱朝向下,以防止记录介质与记录头接触,而形成高质量的图象。

    喷墨记录装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1126662A

    公开(公告)日:1996-07-17

    申请号:CN95116816.9

    申请日:1995-09-01

    Inventor: 大山一夫

    CPC classification number: B41J13/103 B41J11/005 B41J11/08

    Abstract: 一种喷墨记录装置,通过向在记录区域的记录介质上喷墨进行记录的方式,包括送进记录介质至记录区域的装置,并具有一机构,能在横向于供页的方向上使记录介质具有凸凹不平的形状,因此,当用喷墨记录装置记录图象时,能减小因油墨渗入记录介质而形成的各个折皱,并可靠地使折皱朝向下,以防止记录介质与记录头接触,而形成高质量的图象。

    滑架装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107666549B

    公开(公告)日:2019-09-27

    申请号:CN201710575554.8

    申请日:2017-07-14

    Abstract: 一种滑架装置,其包括:用于在两个分离的位置处支撑安装有头的滑架并且引导滑架的往复移动的第一引导构件和第二引导构件,第一调整单元,其被构造成通过滑架的运动调整滑架相对于第一引导构件的高度;以及第二调整单元,其被构造成通过滑架的运动调整滑架相对于第二引导构件的高度。滑架装置能够依次进行通过第一调整单元改变滑架的高度的第一操作和通过第二调整单元改变滑架的高度的第二操作。

    滑架装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107666549A

    公开(公告)日:2018-02-06

    申请号:CN201710575554.8

    申请日:2017-07-14

    Abstract: 一种滑架装置,其包括:用于在两个分离的位置处支撑安装有头的滑架并且引导滑架的往复移动的第一引导构件和第二引导构件,第一调整单元,其被构造成通过滑架的运动调整滑架相对于第一引导构件的高度;以及第二调整单元,其被构造成通过滑架的运动调整滑架相对于第二引导构件的高度。滑架装置能够依次进行通过第一调整单元改变滑架的高度的第一操作和通过第二调整单元改变滑架的高度的第二操作。

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