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公开(公告)号：CN119369843A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202410982674.X
申请日：2024-07-22
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供一种有利于缩短使气密容器的内壁面干燥所需要的时间的基板处理装置、基板处理方法及物品的制造方法。基板处理装置包括：气密容器；基板保持部，其配置在所述气密容器的内部，能够保持涂敷有溶液的基板；气体导入部，其能够向所述气密容器的内部导入气体；以及气体排出部，其能够从所述气密容器的内部排出气体，所述气体导入部具有在所述气密容器的内部开口的第1导入口，所述气体排出部具有在所述气密容器的内部开口的第1排气口，所述基板保持部的上表面包含第1区域和所述第1区域的外侧的第2区域，所述基板配置于所述第1区域，所述第1导入口以在所述气密容器的顶部和所述第2区域之间形成气帘的方式向所述气密容器的内部喷射气体。
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