静电吸盘系统、成膜装置、吸附方法及成膜方法

    公开(公告)号:CN110783247B

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN201910278037.3

    申请日:2019-04-09

    摘要: 本发明涉及静电吸盘系统、成膜装置、吸附方法、成膜方法、以及电子器件的制造方法。静电吸盘系统用于吸附被吸附体,其特征在于,包括:静电吸盘,所述静电吸盘具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面,利用对所述电极部施加的电位差来吸附所述被吸附体;以及吸附辅助构件,在利用所述静电吸盘吸附所述被吸附体时,所述吸附辅助构件用于设定吸附起点并且对吸附进展方向进行引导。根据本发明,可以利用静电吸盘良好地吸附第一被吸附体和第二被吸附体双方而不会残留折皱。

    成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN113005398B

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202011507005.5

    申请日:2020-12-18

    摘要: 本发明涉及成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。抑制向静电吸盘的吸附时产生褶皱。成膜装置,其特征在于,包含:第一基板支撑部,配置在腔室内,支撑基板的第一边的周缘部;第二基板支撑部,配置在腔室内,支撑基板的与第一边相向的第二边的周缘部;基板吸附部件,配置在腔室内的第一及第二基板支撑部的上方并用于吸附基板;以及控制部,独立地控制第一及第二基板支撑部向基板吸附部件的升降,控制部在利用基板吸附部件吸附基板时,将第一基板支撑部移动到距基板吸附部件第一距离的第一位置,将第二基板支撑部移动到距基板吸附部件比第一距离远的第二距离的第二位置,通过基板吸附部件吸附基板,基板从位于第二位置的第二基板支撑部分离。

    成膜装置、成膜方法以及有机EL显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN109837507B

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN201811006629.1

    申请日:2018-08-31

    摘要: 本发明提供一种成膜装置,用于经由掩模在基板上进行成膜,其中,包括基板保持单元以及静电吸盘,所述基板保持单元包括用于支承基板的周缘部的支承部;所述静电吸盘设置于所述支承部的上方,用于吸附基板,所述静电吸盘包括产生电压的电源部、施加所述电压的电极部以及用于控制向所述电极部施加的所述电压的电压控制部,所述电压控制部,在使所述静电吸盘吸附基板时以作为所述电压向所述电极部施加第一电压的方式进行控制,在所述静电吸盘吸附基板之后,在开始蒸镀工序之前,以作为所述电压向所述电极部施加比所述第一电压低的第二电压的方式进行控制。