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公开(公告)号:CN209544284U
公开(公告)日:2019-10-25
申请号:CN201920193021.8
申请日:2019-02-13
申请人: 保定中创燕园半导体科技有限公司
摘要: 本实用新型公开了一种近单晶双层透明AlN陶瓷复合衬底,包括下层的近单晶AlN透明陶瓷基板和上层的AlN或GaN准单晶层;所述近单晶AlN透明陶瓷基板厚度为100—1000微米,晶胞直径在1-3微米,不含烧结助剂,且c轴取向偏差在10—20°以内;所述AlN或GaN准单晶层厚度为5—100微米,c轴取向偏差在5°以内。本实用新型复合衬底接近AlN单晶材料的性能,能够实现外延生长GaN单晶材料或器件或者AlN单晶材料或器件,翘曲变形小,热导率高;且制备该复合衬底的设备成本低,从而制造成本低,使6英寸和8英寸LED器件的生产成为可能。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利