公开(公告)号：CN101896846B

公开(公告)日：2013-02-06

申请号：CN200880120350.4

申请日：2008-12-12

申请人： 光导束公司

发明人： 马克·韦伯斯特 ,  威普库马·帕特尔 ,  玛丽·纳多 ,  普拉卡什·约托斯卡 ,  大卫·派德

IPC分类号： G02B6/26 ,  G02B6/32

CPC分类号： G02B6/32 ,  G02B6/305 ,  G02B6/327

摘要： 基于等离子体的蚀刻工艺用于把支持光波导的光学基底的端面具体加工成将提高在波导和自由空间光信号之间的耦合效率的成形面的外形。使用标准光刻技术图案化并蚀刻光学端面的面的能力实际上允许任何需要的面的几何结构被形成-并横过晶片的表面被复制，用于被制作的整组组件。使用适当定义的光刻用掩膜，透镜可蚀刻在端面里面，关于传播的自由空间信号和光波导的参数选择透镜的焦点。可选择地，有角度的面可沿着端面形成，所述角度足以重新指引反射/散射信号远离光轴。

公开(公告)号：CN101896846A

公开(公告)日：2010-11-24

申请号：CN200880120350.4

申请日：2008-12-12

申请人： 光导束公司

发明人： 马克·韦伯斯特 ,  威普库马·帕特尔 ,  玛丽·纳多 ,  普拉卡什·约托斯卡 ,  大卫·派德

IPC分类号： G02B6/26 ,  G02B6/32

CPC分类号： G02B6/32 ,  G02B6/305 ,  G02B6/327

摘要： 基于等离子体的蚀刻工艺用于把支持光波导的光学基底的端面具体加工成将提高在波导和自由空间光信号之间的耦合效率的成形面的外形。使用标准光刻技术图案化并蚀刻光学端面的面的能力实际上允许任何需要的面的几何结构被形成-并横过晶片的表面被复制，用于被制作的整组组件。使用适当定义的光刻用掩膜，透镜可蚀刻在端面里面，关于传播的自由空间信号和光波导的参数选择透镜的焦点。可选择地，有角度的面可沿着端面形成，所述角度足以重新指引反射/散射信号远离光轴。