基于化学强化的盖板玻璃及其制备方法

    公开(公告)号:CN117756404A

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202311656780.0

    申请日:2023-12-06

    IPC分类号: C03C3/093 C03C21/00 C03B25/00

    摘要: 本发明公开了一种基于化学强化的盖板玻璃及其制备方法,属于盖板玻璃技术领域,该盖板玻璃在制备时通过两轮离子交换处理,第一次通过高钠低钾的熔融盐对玻璃原片进行处理,在玻璃原片表面形成压缩层,在第二次中通过高钾低钠的熔融盐进一步进行离子交换处理,通过进行两次离子交换处理,在第一次处理中降低了对离子交换液熔盐CS的要求,从而充分利用了熔盐,避免频繁的进行熔盐的更换,降低了成本;且通过在玻璃原片的原材料中补入Li2O,能够保证第一次离子交换的效果,保证第一次离子交换完成后能够在玻璃原片的表面形成一定厚度的压缩层。

    一种玻璃单面减薄方法及玻璃减薄设备

    公开(公告)号:CN114394759B

    公开(公告)日:2023-08-01

    申请号:CN202111602592.0

    申请日:2021-12-24

    IPC分类号: C03C15/00

    摘要: 本发明提供一种玻璃单面减薄方法及玻璃减薄设备,包括箱体,所述吸附板的内部开设有相连通的气腔和吸附孔,所述吸附板的外侧固定设置有真空泵,且真空泵连通于气腔,靠近第一气缸的所述吸附板用于吸附第一玻璃板,靠近第二气缸的所述吸附板用于吸附第二玻璃板,所述活塞板远离复原弹簧的一侧设置有刮尘装置和刷洗装置,所述刮尘装置中的刮板可与第一吸水传动带活动接触,所述刷洗装置中的毛刷可与第一吸水传动带旋转接触。本发明提供了玻璃单面减薄方法及玻璃减薄设备,能够对不同尺寸的玻璃同时进行减薄处理,无需根据蚀刻液的液位高低而频繁调整玻璃的位置,也避免了蚀刻液中存在气泡导致蚀刻不均匀的问题,适用范围更广。

    一种玻璃连续ITO镀膜设备和工艺
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114481061A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202111606682.7

    申请日:2021-12-26

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/56 C23C14/08

    摘要: 本发明提供一种玻璃连续ITO镀膜设备和工艺,包括连续型镀膜舱,所述连续型镀膜舱中部设置有镀膜室,所述连续型镀膜舱两侧的舱室沿镀膜室左右两侧呈对称式排布,所述连续型镀膜舱两端均开设有内外相通的基片装取门槽,所述基片架进入真空过渡舱后将两侧的基片架配合槽进行封堵,若干所述负压孔通过管道与外部设置的负压泵连通,本发明的转运架在连续型镀膜舱内部实现循环转运,在转运过程中转运架通过进出真空过渡舱从而实现转运架在负压的连续型镀膜舱与外环境之间进行切换,减小了气体抽取时间,同时两侧均作为对侧基片的取片位置,又作为新基片的上片位置,从而在一个闭环循环中实现了两次镀膜,相较于传统的镀膜方式,大大提高了镀膜效率。

    一种玻璃连续ITO镀膜设备

    公开(公告)号:CN114481061B

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202111606682.7

    申请日:2021-12-26

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/56 C23C14/08

    摘要: 本发明提供一种玻璃连续ITO镀膜设备和工艺,包括连续型镀膜舱,所述连续型镀膜舱中部设置有镀膜室,所述连续型镀膜舱两侧的舱室沿镀膜室左右两侧呈对称式排布,所述连续型镀膜舱两端均开设有内外相通的基片装取门槽,所述基片架进入真空过渡舱后将两侧的基片架配合槽进行封堵,若干所述负压孔通过管道与外部设置的负压泵连通,本发明的转运架在连续型镀膜舱内部实现循环转运,在转运过程中转运架通过进出真空过渡舱从而实现转运架在负压的连续型镀膜舱与外环境之间进行切换,减小了气体抽取时间,同时两侧均作为对侧基片的取片位置,又作为新基片的上片位置,从而在一个闭环循环中实现了两次镀膜,相较于传统的镀膜方式,大大提高了镀膜效率。

    一种ITO导电膜刻蚀痕消除工艺
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114496397A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202111602602.0

    申请日:2021-12-24

    IPC分类号: H01B13/00 H01B5/14

    摘要: 本发明涉及电子显示器件玻璃面板的技术领域,具体涉及一种ITO导电膜刻蚀痕消除工艺,首先经过清洗、烘干、等离子处理的预处理,得到洁净的玻璃基片以备用;然后在预处理后的玻璃基片至少一面设置透明防护层,且在透明防护层上镀制ITO膜层;接下来在所得ITO膜层上刻蚀电极图案,形成具有电极图案的凹痕,再在凹痕内填充消影液,烘干固化;然后在填充了消影液的ITO膜层的表面固化形成补偿层;最后在所得补偿层上设置功能层,该功能层包括依次设置的消影层和减反射层。本发明可以显著消除ITO导电膜的刻蚀痕,且降低了该导电玻璃的反射率,增强了其透过率,实用性强。

    一种玻璃单面减薄方法及玻璃减薄设备

    公开(公告)号:CN114394759A

    公开(公告)日:2022-04-26

    申请号:CN202111602592.0

    申请日:2021-12-24

    IPC分类号: C03C15/00

    摘要: 本发明提供一种玻璃单面减薄方法及玻璃减薄设备,包括箱体,所述吸附板的内部开设有相连通的气腔和吸附孔,所述吸附板的外侧固定设置有真空泵,且真空泵连通于气腔,靠近第一气缸的所述吸附板用于吸附第一玻璃板,靠近第二气缸的所述吸附板用于吸附第二玻璃板,所述活塞板远离复原弹簧的一侧设置有刮尘装置和刷洗装置,所述刮尘装置中的刮板可与第一吸水传动带活动接触,所述刷洗装置中的毛刷可与第一吸水传动带旋转接触。本发明提供了玻璃单面减薄方法及玻璃减薄设备,能够对不同尺寸的玻璃同时进行减薄处理,无需根据蚀刻液的液位高低而频繁调整玻璃的位置,也避免了蚀刻液中存在气泡导致蚀刻不均匀的问题,适用范围更广。