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公开(公告)号:CN119365339A
公开(公告)日:2025-01-24
申请号:CN202380046174.9
申请日:2023-06-13
Applicant: 凸版控股株式会社
Abstract: 一种多层膜(1),具备:作为基材膜的第1膜(11)、和设置在所述第1膜(11)的一个面上且含有烷氧基硅烷的水解产物和脱水缩合反应产物的涂层(14),在所述涂层(14)的表面,通过飞行时间型二次离子质谱法得到的以总阳离子量标准化而得的SiOH+的量在0.02至0.07的范围内。
公开(公告)号:CN119365339A
公开(公告)日:2025-01-24
申请号:CN202380046174.9
申请日:2023-06-13
Applicant: 凸版控股株式会社
Abstract: 一种多层膜(1),具备:作为基材膜的第1膜(11)、和设置在所述第1膜(11)的一个面上且含有烷氧基硅烷的水解产物和脱水缩合反应产物的涂层(14),在所述涂层(14)的表面,通过飞行时间型二次离子质谱法得到的以总阳离子量标准化而得的SiOH+的量在0.02至0.07的范围内。