用于基材上的大气压等离子射流涂覆沉积的改进方法和装置

    公开(公告)号:CN112313005A

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN201980041732.6

    申请日:2019-06-24

    Abstract: 本发明涉及一种用于等离子涂覆包括物体轮廓的物体的方法,包括以下步骤:a.制造能更换的遮护件(2),该遮护件包括射流入口(22)、喷嘴出口(24)和从射流入口延伸至喷嘴出口的侧壁(21),其中,喷嘴出口包括与物体轮廓的至少一部分基本上一致的边缘(25);b.将能更换的遮护件能拆卸地附连到等离子射流发生器的射流出口;c.将物体放置在喷嘴出口处,使得物体轮廓紧密地配合喷嘴出口边缘,从而使喷嘴出口与物体之间的间隙最小化;d.通过经由等离子射流发生器在遮护件中提供等离子射流,并在遮护件中的等离子射流中喷射涂层前体,由此产生操作压力,在高于大气压力、优选地至多10%的操作压力下,从而利用低温无氧等离子体对物体进行涂覆,从而在氧耗尽的等离子体区中对物体进行等离子涂覆。

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