-
公开(公告)号:CN102205639A
公开(公告)日:2011-10-05
申请号:CN201110051124.9
申请日:2011-03-03
Applicant: 北京化工大学
IPC: B29C59/04
Abstract: 聚合物微压印成型,是一种在聚合物基片材料上形成微纳结构图案的热压印成型方法,主要应用于各种聚合物基微纳结构的制造上。实验装置主要包括:聚合物基片挤出机、基片压平调厚装置、温度控制装置、压印装置、压力控制装置、保压冷却装置和牵引装置。其中,压平调厚装置用于将挤出的聚合物基片压平:温度控制装置用于保证聚合物基片待压印表面的温度;压印装置上安装有压印微结构的压印模具,通过施加压力,实现微结构的转移;压力控制装置用于调节施加于聚合物基片上的压力;保压冷却装置用于实现微结构的冷却定型。这种成型方法节省了大量加热冷却所需要的时间和能量,压印设备得到了大大的简化、生产效率高、操作简单、成本低廉。
-
公开(公告)号:CN119930971A
公开(公告)日:2025-05-06
申请号:CN202510246784.4
申请日:2025-03-04
Applicant: 北京化工大学
IPC: C08G18/61 , C08G18/75 , C08G77/42 , C08F120/36 , C09D175/02 , C09D5/16
Abstract: 本发明提供了一种含自生两性离子的有机硅聚脲及其制备方法和应用,所述含自生两性离子的有机硅聚脲包括衍生自双端羧基官能化的聚自生两性离子聚合物的结构单元、双氨基封端的有机硅的结构单元和异氰酸酯的结构单元。本发明将脲键和含有碳氟基团的两性离子前驱体引入有机硅中,得到的含自生两性离子的有机硅聚脲作为海洋防污涂料,赋予了涂料优异的粘结性能、自愈性能、静态防污性能和较低的仿真藤壶去除强度以及吸水率。
-