半导体工艺设备及其屏蔽罩结构
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118522625A

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202310186399.6

    申请日:2023-02-20

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本申请公开一种半导体工艺设备及其屏蔽罩结构,属于半导体工艺技术。该屏蔽罩结构中,其第一屏蔽罩体围绕工艺腔室的上部空间设置,且设置有多个第一射频馈入孔,以在每相邻的两个第一射频馈入孔之间形成一个孔间隙。其调节屏蔽罩体围绕第一屏蔽罩体设置,且设置有与多个第一射频馈入孔一一对应设置的多个调节射频馈入孔。其调节动力机构,与调节屏蔽罩体驱动连接,以驱动调节屏蔽罩体相对第一屏蔽罩体转动。其第二屏蔽罩体围绕调节屏蔽罩体设置,且设置有多个第二射频馈入孔,每个第二射频馈入孔正对一个孔间隙设置。本技术方案,其可确保内层射频馈入孔的宽度在工艺过程中保持恒定,进而保证半导体工艺设备的蚀刻速率和工艺稳定性。

    半导体设备及其磁控管组件
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117995642A

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202211388251.2

    申请日:2022-11-07

    IPC分类号: H01J37/34 C23C14/35 H01L21/67

    摘要: 本申请公开一种半导体设备及其磁控管组件,属于半导体工艺技术领域。磁控管组件的转盘上开设有至少两个滑槽,每个滑槽的一端均位于第一尺寸的圆周上,另一端均位于第二尺寸的圆周上,每个滑槽的延伸方向均与转盘的径向呈预设角度的夹角,每个滑槽内还卡设有沿滑槽的延伸方向自由滑动的一个磁控管或一个磁控管配重;限位件与转轴转动连接,且限位件上开设有与至少两个滑槽一一对应的至少两个限位槽,每个限位槽均沿转盘的径向延伸,每个限位槽配合对应的滑槽卡设相应的磁控管或磁控管配重。本技术方案,其可实现磁控管在靶材边缘上方、靶材内侧上方两个位置的切换和旋转,具有结构简单、运动轨迹简单、易于控制、使用寿命长、可靠性较高等优点。