一种紫外多参数校准装置

    公开(公告)号:CN103175677B

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201310065833.1

    申请日:2013-03-04

    IPC分类号: G01M11/02 G01J3/28

    摘要: 本发明涉及紫外光参数校准技术领域,具体的讲是一种紫外多参数校准装置,旋转平台内置于所述真空仓内,单色仪与真空仓相连接,紫外探测器通过单色仪测量真空仓内的紫外光源的辐射,或者紫外光源通过单色仪向真空仓提供紫外光源的辐射;标准紫外光源,待校准光源,标准紫外探测器,待校准探测器,紫外成像器和紫外成像参数校准系统均置于所述旋转平台之上,所述旋转平台根据控制信号沿着所述旋转平台的圆心旋转,其中,所述紫外成像器和紫外成像参数校准系统处于同一光路。通过上述实施例,能够在一个共用校准装置上实现紫外光源光谱辐射度校准、紫外探测器光谱响应度和紫外成像器参数的校准,节省了试验成本,提高了试验效率。

    一种极远紫外光源校准装置

    公开(公告)号:CN102998088B

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201210478703.6

    申请日:2012-11-23

    IPC分类号: G01M11/00 G01J3/10

    摘要: 本发明提供了一种极远紫外光源校准装置,包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中,汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜,其包括摆镜和旋转位移平台,摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜,其反射镜中心轴线重合,其中一块反射镜的反射面A镀30nm~200nm反射膜,另一块反射镜的反射面B镀60nm~200nm反射膜。利用本发明可以实现30nm~200nm范围内光源光谱辐射参数校准。本发明提供的整个装置体积小巧,接口丰富,在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计,提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。

    一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统

    公开(公告)号:CN103176280A

    公开(公告)日:2013-06-26

    申请号:CN201310065831.2

    申请日:2013-03-04

    IPC分类号: G02B27/30 G02B27/09 G02B27/00

    摘要: 本发明涉及光学系统设计技术领域,具体的讲是一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统,其中当进行探测器真空紫外相对光谱响应率校准时,所述复数个准直透镜中的特定准直透镜将110nm-400nm波段范围内的特定波段的紫外光源变为平行光发送给所述探测器;当进行光源真空紫外光谱辐照度校准时,所述复数个会聚透镜中的特定会聚透镜将经过漫射器的110nm-400nm波段范围内的特定波段的紫外光源会聚输出至标准探测器,其中经过特定漫射器对特定波段的紫外光源进行均光。通过本发明实施例使用组合式设计方法,使光学系统的7片透镜材料、波段范围和性能参数得到合理匹配,降低了成本,简化了系统结构。

    适用于真空低温环境下的黑体辐射源

    公开(公告)号:CN105890766B

    公开(公告)日:2019-02-15

    申请号:CN201510009125.5

    申请日:2015-01-09

    IPC分类号: G01J5/00

    摘要: 本发明提供一种适用于真空低温环境下的黑体辐射源,包括:辐射模块,用于产生红外辐射;加热制冷模块,用于对所述辐射模块进行制冷或加热;控制器,用于控制所述加热制冷模块对所述辐射模块进行制冷或加热,使所述辐射模块维持预设温度,以使所述辐射模块产生与预设温度对应的红外辐射;通过控制温度使其产生与温度对应的红外辐射,适用的温度范围宽,且能够适用于真空环境和低温环境,结构简单,可靠性高。

    一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统

    公开(公告)号:CN103954366B

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201410174914.X

    申请日:2014-04-28

    IPC分类号: G01J5/00

    摘要: 本发明公开了一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统。本系统包括红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置、计算机控制单元;其中红外信号传输光学系统位于待校准面源黑体之前,安装在二维扫描转置上,红外信号传输光学系统的输出端与光调制器输入端连接;红外探测器用于接收光调制器的输出信息,其输出端经AD信号卡与计算机控制单元连接;待校准面源黑体、红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置位于同一真空仓内。本发明能够实现真空低温条件下超大面源黑体校准的系统,填补了此项技术空白。

    一种提高真空面源黑体均匀性的精细划分控制系统

    公开(公告)号:CN103677012A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310629300.1

    申请日:2013-11-28

    IPC分类号: G05D23/24

    摘要: 本发明公开了一种提高真空面源黑体均匀性的精细划分控制系统,本系统包括温度控制仪表、温度传感器、信号调理电路、面源黑体辐射源;所述面源黑体辐射源设有N个区域,每一区域设置一加热片,所述信号调理电路为一分N信号调理电路;所述信号调理电路的电压信号输入端与所述温度控制仪表的电压信号输出端连接,其每一电压信号输出端口分别经一程控电源与一所述加热片连接;所述温度传感器设于所述面源黑体辐射源上,并通过数据线与所述温度控制仪表的信号输入端连接。本系统具有均匀性好、稳定速度快,而且结构简单、成本低。

    一种真空紫外光谱辐照度标定方法及系统

    公开(公告)号:CN103175607A

    公开(公告)日:2013-06-26

    申请号:CN201310062602.5

    申请日:2013-02-28

    IPC分类号: G01J1/00

    摘要: 本发明涉及紫外辐射量测量技术领域,具体的讲是一种真空紫外光谱辐照度标定方法及系统。获取紫外光源115nm-400nm波段范围的紫外光谱辐亮度L(λ);获取该紫外光源250nm-400nm波段范围的紫外光谱辐照度E(λ);利用Ω=E(λ)/L(λ),计算得到250nm-400nm波段范围的光源立体角Ω;根据所述250nm-400nm波段范围的光源立体角Ω得到115nm~250nm波段范围内的光源立体角Ω1;利用E1(λ)=L(λ)·Ω1得到115nm~250nm波段范围内的紫外光谱辐照度E1(λ)。通过本发明实施例解决了光源真空紫外光谱辐照度标定波长下限不能达到250nm以下的难题。

    一种汇聚摆镜
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103017899A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210478694.0

    申请日:2012-11-23

    IPC分类号: G01J3/02 G02B26/08

    摘要: 本发明提供了一种汇聚摆镜,包括摆镜和旋转位移平台,其中,摆镜包括两块非反射面贴合的凹面反射镜,两块反射镜中心轴线重合,所述凹面反射镜曲面半径范围为50mm~5000mm,其中一块反射镜的反射面A镀30nm~200nm高反射膜,另一块反射面B镀60nm~200nm高反射膜,低于60nm光谱反射率较低。所述摆镜通过旋转位移平台进行平移和旋转运动。本发明可实现标准光源与待测光源的快速切换;并且可实现在光源光谱辐射度校准和探测器响应度校准中高级次光谱杂散辐射的有效滤除,减少测量误差,提升测量精度。

    基于激光散斑测量振动目标位移的方法及系统

    公开(公告)号:CN107036534B

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN201610075934.0

    申请日:2016-02-03

    IPC分类号: G01B11/02 G01H9/00

    摘要: 本发明实施例公开的一种基于激光散斑测量振动目标位移的方法及系统,涉及震动物体的位移测量技术,能够精确测量震动物体的位移。来自成像组件和来自反射镜的光能量在光电探测组件的CCD感光面上均分布呈多个斑并发生干涉,被测物体在振动过程中发生位移,对散斑图像进行运算,获得被测物体的振动信息,对干涉图像进行运算,获得被测物体的振动和位移的总体信息,再将两组信息进行组合计算获得被测物体的位移信息,主要用于测量振动目标位移。

    一种红外可见复合光源
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107024279B

    公开(公告)日:2019-10-18

    申请号:CN201710120949.9

    申请日:2017-03-02

    IPC分类号: G01J5/00 G01J3/10

    摘要: 本发明涉及一种红外可见复合光源,该红外可见复合光源包括:黑体辐射源、红外可见光复合控制器;通过红外可见光复合控制器中的控温仪控制黑体辐射源的加热器件、制冷器件的输出功率,调整辐射板的温度,达到调整红外光辐射;通过红外可见光复合控制器的可调电压源,调整可见光的强度。本发明主要提供1.2μm~20μm红外光、0.4μm~0.7μm可见光,可以省略红外/可见光复合器,具有结构简单、成本低、操作使用方便等特点。