消杂光涂层及其制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115521641A

    公开(公告)日:2022-12-27

    申请号:CN202211223784.5

    申请日:2022-10-08

    摘要: 本申请涉及一种消杂光涂层及其制备方法,涂层包括底层以及覆盖至少一部分底层的表层;表层包括树脂和分散于树脂中的炭黑;底层包括底层粘接剂和分散于底层粘接剂中的底层吸光剂,底层粘接剂包括磷酸盐,底层吸光剂包括无机氧化物吸光粉体。光照表层为炭黑/树脂类消杂光涂层,具有优异的吸光性能,确保空间光学成像系统在非高温环境下满足使用需求;高温条件时,即环境温度高于500℃,甚至高于1000℃时,表层因不耐受高温而出现脱落,此时暴露于光照下的底层因其为磷酸盐/无机氧化物吸光粉体类消杂光涂层,仍可在高温环境中保持良好的吸光性能;且涂层在多次高温烘烤后,仍可重复使用;底层与基材的结合力优异,确保了消杂光涂层与基材的稳定结合。

    消光材料及其制备方法、消光涂层

    公开(公告)号:CN115386252A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202211086015.5

    申请日:2022-09-06

    摘要: 本申请涉及一种消光材料及其制备方法、消光涂层,制备方法包括:制备硅酸盐稀释液;在硅酸盐稀释液中加入硅溶胶以制得硅溶胶改性硅酸盐作为粘接剂;以及混合分散吸光剂和粘接剂。上述制备方法简单易行,成本低,易于工业化制备及涂层施工。消光材料的粘接剂包括硅溶胶改性硅酸盐,可以将消光涂层的光照表面塑造形成粗糙的陷光结构,以提高消光涂层太阳吸收比,从而确保在高温热辐射的工况环境中,消光材料及消光涂层仍能有效抑制光学系统杂散光。本申请的消光涂层的太阳吸收比可达0.98以上,半球发射率可达0.89~0.91。上述消光材料和消光涂层在高温热辐射下,还能保持材料性能的稳定,大幅降低涂层材料分解风险,最终确保光学系统工作的可靠与稳定。