一种400~1100nm波段高吸收消杂光涂层漆料及其制备与用途

    公开(公告)号:CN115895360B

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202211428543.4

    申请日:2022-11-15

    摘要: 本发明属于表面工程技术领域,具体涉及一种400~1100nm波段高吸收消杂光涂层漆料及其制备与用途。所述涂层漆料包括底层漆料和面层漆料;所述底层漆料包括水、改性碳气凝胶和改性硅藻土;所述改性硅藻土的粒径为6~12μm、孔径为400~800nm;所述面层漆料包括水、有机溶剂、改性碳气凝胶和改性硅藻土;所述改性硅藻土的粒径为6~12μm、孔径为400~800nm。本发明研制了一种基于硅藻土孔径结构的400~1100nm波段高吸收消杂光涂层漆料。该涂层针对400~1100nm光谱波段的高吸收消杂光需求,在原有具备高光吸收碳气凝胶填料的基础上,以及不同挥发速率溶剂混合创造粗糙界面结构配合下,再结合特定粒径和孔径大小的硅藻土,促使涂层表面形成了致密而又可以吸收光线的特殊结构,实现低反射、高吸收率。

    耐辐照热控填料和防静电热控涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116426144A

    公开(公告)日:2023-07-14

    申请号:CN202211713398.4

    申请日:2022-12-29

    摘要: 本申请涉及一种耐辐照热控填料及其制备方法、以及一种防静电热控涂层及其制备方法,其中填料制备方法括:(1)将铝盐和锌盐的混合盐溶液与碱性溶液反应制得前驱体;(2)对前驱体进行干燥和煅烧,获得铝掺杂氧化锌粉体;以及(3)对铝掺杂氧化锌粉体进行氧气气氛纯化,获得耐辐照热控填料,其中,纯化的温度高于煅烧的温度。上述填料制备方法中采用氧气气氛纯化处理,利用了晶格缺陷调控和晶体内部空位设计的原理,降低粉体颜料中氧空位缺陷的浓度,实现抑制填料的质子辐照损伤,提高了填料以及包含该填料的涂层在真空‑质子辐照环境下的稳定性,在满足防静电要求的同时确保空间质子辐照稳定性,延长材料使用寿命。

    一种消杂光-分子吸附-热控三功能涂料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN114316636B

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202111598768.X

    申请日:2021-12-24

    IPC分类号: C09D1/00 C09D7/61

    摘要: 本发明涉及表面工程技术领域,公开了一种消杂光‑分子吸附‑热控三功能涂料及其制备方法和应用。本发明所述涂料包括炭黑、沸石分子筛和磷酸二氢铝。本发明提供了一种消杂光‑分子吸附‑热控三功能涂料,其以炭黑、沸石分子筛和磷酸二氢铝作为原料,该涂料形成的涂层太阳吸收比最高的大于0.98,半球发射率可达0.89~0.92,饱和吸附量可达50‑95mg/g;同时,随着分子污染物吸收量的不断增加,太阳吸收比只有轻微的下降,而半球发射率基本不变。此外,所述涂料制备方法简单易行,易于工业化制备。

    防静电热控涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN115806752B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202211485860.X

    申请日:2022-11-24

    摘要: 本申请涉及一种防静电热控涂层及其制备方法,涂层包括表面处理剂层、设于表面处理剂层之上的底层以及设于底层之上的面层;底层包括基体树脂以及分布于基体树脂中的棒状铝掺杂氧化锌填料,底层中的至少一部分棒状铝掺杂氧化锌的一端延伸至面层;面层包括基体树脂、以及分布于基体树脂中的包含棒状铝掺杂氧化锌和稀土氧化物的混合填料,面层中的至少一部分棒状铝掺杂氧化锌与延伸至面层的底层中的棒状铝掺杂氧化锌搭接。该搭接结构使得整体体积电阻率降低,防静电性能优良;面层直接暴露在空间环境中,接受环境中质子等高能粒子的辐照,包含耐质子辐照稳定性的稀土氧化物填料,具有较强的耐质子辐照性能,可以抵抗质子辐照的退化影响。

    一种超黑-分子吸附双功能热控涂料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN114316643B

    公开(公告)日:2023-04-25

    申请号:CN202111601155.7

    申请日:2021-12-24

    IPC分类号: C09D1/02 C09D5/32 C09D7/61

    摘要: 本发明涉及表面工程技术领域,公开了一种超黑‑分子吸附双功能热控涂料及其制备方法和应用。本发明所述涂料包括炭黑、超级活性炭和硅酸钾。本发明提供了一种超黑‑分子吸附双功能热控涂料,其以炭黑、超级活性炭和硅酸钾作为原料进行制备,该涂料形成的涂层太阳吸收率可达0.97‑0.98,半球发射率可达0.91‑0.92,饱和吸附量可达40‑100mg/g;同时,随着分子污染物吸收量的不断增加,太阳吸收率只有轻微的下降,而半球发射率基本不变。此外,所述涂料制备方法简单易行,易于工业化制备。

    消杂光涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN115521641A

    公开(公告)日:2022-12-27

    申请号:CN202211223784.5

    申请日:2022-10-08

    摘要: 本申请涉及一种消杂光涂层及其制备方法,涂层包括底层以及覆盖至少一部分底层的表层;表层包括树脂和分散于树脂中的炭黑;底层包括底层粘接剂和分散于底层粘接剂中的底层吸光剂,底层粘接剂包括磷酸盐,底层吸光剂包括无机氧化物吸光粉体。光照表层为炭黑/树脂类消杂光涂层,具有优异的吸光性能,确保空间光学成像系统在非高温环境下满足使用需求;高温条件时,即环境温度高于500℃,甚至高于1000℃时,表层因不耐受高温而出现脱落,此时暴露于光照下的底层因其为磷酸盐/无机氧化物吸光粉体类消杂光涂层,仍可在高温环境中保持良好的吸光性能;且涂层在多次高温烘烤后,仍可重复使用;底层与基材的结合力优异,确保了消杂光涂层与基材的稳定结合。

    消光材料及其制备方法、消光涂层

    公开(公告)号:CN115386252A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202211086015.5

    申请日:2022-09-06

    摘要: 本申请涉及一种消光材料及其制备方法、消光涂层,制备方法包括:制备硅酸盐稀释液;在硅酸盐稀释液中加入硅溶胶以制得硅溶胶改性硅酸盐作为粘接剂;以及混合分散吸光剂和粘接剂。上述制备方法简单易行,成本低,易于工业化制备及涂层施工。消光材料的粘接剂包括硅溶胶改性硅酸盐,可以将消光涂层的光照表面塑造形成粗糙的陷光结构,以提高消光涂层太阳吸收比,从而确保在高温热辐射的工况环境中,消光材料及消光涂层仍能有效抑制光学系统杂散光。本申请的消光涂层的太阳吸收比可达0.98以上,半球发射率可达0.89~0.91。上述消光材料和消光涂层在高温热辐射下,还能保持材料性能的稳定,大幅降低涂层材料分解风险,最终确保光学系统工作的可靠与稳定。