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公开(公告)号:CN118621441A
公开(公告)日:2024-09-10
申请号:CN202310246472.4
申请日:2023-03-10
摘要: 本发明提供一种大尺寸无孪晶铜单晶晶圆的制备方法,通过采用高功率循环磁控溅射的方法,在蓝宝石单晶晶圆衬底上沉积的(111)取向的初始铜织构中引入一定量的多晶结构,从而实现大尺寸无孪晶Cu(111)单晶晶圆衬底的可控制备。对于以石墨烯为代表的二维纳米材料来说,无孪晶Cu(111)单晶晶圆是良好的外延衬底,可以实现二维纳米材料的取向一致成核与无缝拼接,最终得到大面积的单晶薄膜。本方法对于探究铜薄膜的单晶化机理,推动晶圆级二维纳米材料单晶的可控制备来说具有重要的意义。