公开(公告)号：CN1054451A

公开(公告)日：1991-09-11

申请号：CN90100946.6

申请日：1990-02-27

Applicant: 北京联合大学机械工程学院

Inventor： 王福贞 ,  袁哲 ,  唐希源 ,  周友苏 ,  张树林 ,  程永清

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/30

Abstract: 本发明是采用电磁控阴极电弧源的镀渗设备，属于真空镀膜、离子镀膜、离子渗金属领域。其技术特征在于控制电磁线圈的排布方式，在放电过程中不断改变线圈电流的方向和大小。在靶面产生的轴向磁场分量和径向磁场分量在靶材径向不断变化，使场致发射式阴极电弧在靶面上均匀放电。阴极弧斑在靶面上由小圈到大圈周期变化，靶材烧蚀均匀，靶材利用率高、镀膜厚度均匀，渗金属件温度均匀，有效沉积速率高。适于镀渗细长工件、板材、厚涂层等。

公开(公告)号：CN1021062C

公开(公告)日：1993-06-02

申请号：CN90100946.6

申请日：1990-02-27

Applicant: 北京联合大学机械工程学院

Inventor： 王福贞 ,  袁哲 ,  唐希源 ,  周友苏 ,  张树林 ,  程永清

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明是一种新型电磁控阴极电弧源，应用于真空镀膜、离子镀膜、离子渗金属领域的设备中，其特征在于控制电磁线圈的排布方式，在放电过程中不断改变线圈电流的方向和大小，在靶面产生的磁感应强度在10°-10-ZT范围变化，阴极电弧弧斑在靶面上由小环到大环周期变化。靶材烧蚀均匀，靶材利用率高。