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公开(公告)号：CN103091979B
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201310006963.8
申请日：2013-01-09
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明公开了一种纳米压印模板的制备方法，用于制作具有表面高增透性能的微结构，以用于光学器件，该方法包括：制备衬底并在衬底表面镀膜的步骤；对镀膜的衬底进行阳极氧化并进行扩孔处理以形成多孔氧化铝表面的步骤；和对经氧化扩孔处理后的器件进行干法或湿法刻蚀，获得具有粗糙起伏表面的纳米压印模板的步骤；衬底镀膜步骤中，先在衬底表面镀一层钛膜，然后在钛膜上镀铝膜，以增强铝膜的结合强度，防止铝膜上的纳米空洞脱落。本发明还公开了利用该方法制备的纳米压印模板以及具有利用该模板制备的微结构的光学器件。本发明可获得具有圆锥状的纳米孔洞形貌，其表面在微米级范围上具有百纳米级的起伏，从而制备出的微结构具有很好的增透效果。
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公开(公告)号：CN103091980A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201310007309.9
申请日：2013-01-09
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明公开了一种孔洞纳米压印模板的制备方法，包括：制备表面镀有铝膜的衬底；对衬底进行阳极氧化和扩孔，氧化时间为阳极氧化开始到衬底表面开始变色所需时长；对样片进行ICP刻蚀，再去除掩膜材料后即得纳米压印模板；ICP刻蚀分为三步完成：（1）无掩膜的多孔氧化层刻蚀，用于去除纳米孔洞层底部的阻挡层，（2）以多孔氧化层为掩膜的铝刻蚀，以将纳米空洞底部的铝膜层刻蚀到底，（3）以多孔铝膜层为掩膜的衬底刻蚀，以将纳米孔洞结构转移至衬底上。本发明还公开了一种利用上述方法制备的纳米压印模板。本发明通过控制多孔氧化层的厚度并保证阳极氧化刚好到达衬底界面，同时配合选择性的干法刻蚀工艺，从而获得大面积上均匀孔洞结构的转移。
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公开(公告)号：CN103091980B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201310007309.9
申请日：2013-01-09
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明公开了一种孔洞纳米压印模板的制备方法，包括：制备表面镀有铝膜的衬底；对衬底进行阳极氧化和扩孔，氧化时间为阳极氧化开始到衬底表面开始变色所需时长；对样片进行ICP刻蚀，再去除掩膜材料后即得纳米压印模板；ICP刻蚀分为三步完成：（1）无掩膜的多孔氧化层刻蚀，用于去除纳米孔洞层底部的阻挡层，（2）以多孔氧化层为掩膜的铝刻蚀，以将纳米空洞底部的铝膜层刻蚀到底，（3）以多孔铝膜层为掩膜的衬底刻蚀，以将纳米孔洞结构转移至衬底上。本发明还公开了一种利用上述方法制备的纳米压印模板。本发明通过控制多孔氧化层的厚度并保证阳极氧化刚好到达衬底界面，同时配合选择性的干法刻蚀工艺，从而获得大面积上均匀孔洞结构的转移。
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公开(公告)号：CN103091979A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201310006963.8
申请日：2013-01-09
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明公开了一种纳米压印模板的制备方法，用于制作具有表面高增透性能的微结构，以用于光学器件，该方法包括：制备衬底并在衬底表面镀膜的步骤；对镀膜的衬底进行阳极氧化并进行扩孔处理以形成多孔氧化铝表面的步骤；和对经氧化扩孔处理后的器件进行干法或湿法刻蚀，获得具有粗糙起伏表面的纳米压印模板的步骤；衬底镀膜步骤中，先在衬底表面镀一层钛膜，然后在钛膜上镀铝膜，以增强铝膜的结合强度，防止铝膜上的纳米空洞脱落。本发明还公开了利用该方法制备的纳米压印模板以及具有利用该模板制备的微结构的光学器件。本发明可获得具有圆锥状的纳米孔洞形貌，其表面在微米级范围上具有百纳米级的起伏，从而制备出的微结构具有很好的增透效果。
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