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公开(公告)号：CN118624537A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410728518.0
申请日：2024-06-06
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： G01N21/21
摘要： 本发明属于精密光学测量相关技术领域，其公开了一种双光弹调制器型穆勒矩阵椭偏仪的系统参数校准方法及设备，该方法包括以下步骤：S1，关闭两个光弹调制器，采集光强信息，进而通过光强拟合的方式标定检偏器相对于起偏器的方位角和系统增益系数；S2，打开第一个光弹调制器，使用第一采样率采集一组光强，并使用频域光强拟合的方法校准出第一光弹调制器的方位角和峰值延迟量，同时得到调制频率，然后使用第二采样率采集一组光强，并使用时域光强拟合的方法校准出第一光弹调制器的初相位和静态延迟量；S3，关闭第一个光弹调制器，打开第二个光弹调制器，对第二个光弹调制器同样基于光强拟合进行校准。本发明避免了使用多个锁相放大器。
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公开(公告)号：CN110404530A
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201910684163.9
申请日：2019-07-26
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于环境催化材料技术领域，更具体地，涉及一种多孔纳米氧化锰催化剂、其制备和应用。将锰盐与氨基酸混合溶解于溶剂中，然后升温使之达到氨基酸的燃点并发生燃烧反应，反应完成后对产物进行洗涤，固液分离后得到所述多孔纳米氧化锰催化剂。本发明制备得到的三氧化二锰应用于挥发性有机物的催化燃烧时，具有较高的比表面积、均匀的孔径分布，催化活性高，稳定强，具有优异的抗水性等优点。燃烧产物选择性高，不产生二次污染，环境友好，成本低廉，易于工业化生产。
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公开(公告)号：CN117368114A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202311188558.2
申请日：2023-09-13
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于光学测量相关技术领域，其公开了一种快照式椭偏测量方法及设备，所述设备包括光源、起偏臂、检偏臂、探测器及数据处理器；所述光源通过光纤连接于所述起偏臂，所述检偏臂设置在所述起偏臂的光路上，所述探测器设置在所述检偏臂的光路上；所述数据处理器与所述探测器相连接；所述起偏臂包括依次沿光路设置的第一透镜、起偏器及第一相位延迟器；所述检偏臂包括沿光路依次设置的第二相位延迟器、检偏器及第二透镜。本发明中偏振器件仅仅只有两个相位延迟器和两个偏振片，能够测量大多数各向同性样品，如各向同性薄膜，并且无运动部件，因此安装误差更容易控制，测量速度快且稳定。
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公开(公告)号：CN116339078A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202310116536.9
申请日：2023-02-09
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明属于集成电路制造光学在线测量技术领域，公开了一种角分辨快照式套刻误差测量装置及方法，装置包括：探测光产生模块用于产生探测光；光谱调制模块用于将探测光依次进行第一次偏振、第一次相位调制后以不同的入射角照射在待测套刻样件上，并对反射后的多束光束依次进行第二次相位调制和第二次偏振，得到待测套刻样件反射的偏振调制光；角分辨光谱采集模块用于对所述偏振调制光进行光谱成像，得到待测套刻样件的角分辨光谱；套刻误差测量模块用于基于所述角分辨光谱获得在不同入射角下的待测套刻样件的套刻误差。本发明能够提升套刻误差的测量精度和测量的稳定性，克服了斜入射式结构光斑大的缺点，还保留了快照式椭偏仪简单快速测量的优点。
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公开(公告)号：CN115755533A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211408944.3
申请日：2022-11-11
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于集成电路制造在线测量领域，并具体公开了一种快照式套刻误差测量方法及系统，其包括步骤：对待测件进行测量，分别获取具有正、负预置偏差的两道测量光谱，对测量光谱进行相干解调，将特定频道移频至零频通道；采用线性算子处理移频后的光谱数据，获得对应正负预置偏差的系数；根据系数的实部和虚部系数线性组合构造特征量，则根据对应正负预置偏差的系数分别计算得到对应的特征量；基于特征量与套刻误差的线性关系，根据特征量计算得到套刻误差。本发明无需使用传统的傅里叶分析及截断操作，就可以进行套刻误差的多波长耦合求解，具有较高精度和对噪声的鲁棒性，可用于多场景下的快照式套刻误差测量的数据处理。
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