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公开(公告)号：CN102879781A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210344044.7
申请日：2012-09-18
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01S13/90
Abstract: 本发明公开了一种分布式综合孔径微波辐射计阵列成像方法，包括S1：采用b个子阵列组成天线阵列，接收目标场景的微波辐射热信号，得到Ni路模拟信号，进行AD转换后输出数字复信号xj(t)，t为离散时间变量，Ni为子阵列i的通道数；b为大于等于2的正整数；S2：在数字复信号xj(t)中选择子阵列i的任意两路xn(t)、xm(t)，利用公式Vi＝E[xn(t)xm(t)]计算各子阵列的可见度Vi；S3：将各个子阵列的可见度Vi代入公式进行累加计算，得到整体可见度Vent；S4：将整体可见度Vent进行G矩阵校正得到校正后的整体可见度V′ent；S5：将校正后的整体可见度V′emt进行反演成像运算得到目标场景的亮温分布T。本发明提供方法可以使微波辐射测量系统的空间分辨率得到一个甚至多个数量级的提高，同时为微波辐射测量带来全新的应用方式。
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公开(公告)号：CN102879781B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201210344044.7
申请日：2012-09-18
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01S13/90
Abstract: 本发明公开了一种分布式综合孔径微波辐射计阵列成像方法，包括S1：采用b个子阵列组成天线阵列，接收目标场景的微波辐射热信号，得到Ni路模拟信号，进行AD转换后输出数字复信号xj(t)，t为离散时间变量，Ni为子阵列i的通道数；b为大于等于2的正整数；S2：在数字复信号xj(t)中选择子阵列i的任意两路xn(t)、xm(t)，利用公式Vi＝E[xn(t)xm(t)]计算各子阵列的可见度Vi；S3：将各个子阵列的可见度Vi代入公式进行累加计算，得到整体可见度Vent；S4：将整体可见度Vent进行G矩阵校正得到校正后的整体可见度V′ent；S5：将校正后的整体可见度V′emt进行反演成像运算得到目标场景的亮温分布T。本发明提供方法可以使微波辐射测量系统的空间分辨率得到一个甚至多个数量级的提高，同时为微波辐射测量带来全新的应用方式。
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公开(公告)号：CN102914774B
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201210346376.9
申请日：2012-09-18
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01S13/90
Abstract: 本发明公开了一种综合孔径辐射计图像反演方法，该方法包括根据目标场景的可见度数据V和辐射计的冲击响应矩阵G获得可见度的概率测度初始值β和不同像素点i的概率测度初始值ai，计算GTG矩阵的特征值λi；计算后验概率的均值u和后验概率的方差∑T|V，更新β和a并判断可见度的概率测度更新值βnew和概率测度更新值anew是否同时收敛，若是则将可见度的概率测度更新值βnew、概率测度更新值anew、后验概率的均值u和后验概率的方差∑T|V代入公式p(T|G，anew，βnew)＝N(T|u，∑T|V)获得亮温图像分布T，若否，则返回进一步计算u和∑T|V。本发明能够有效的降低获得最优模型的计算复杂度，得到方差和偏差都较小的反演结果，减少噪声对反演结果的影响，有效的提高反演图像的分辨率，是一种可以自动的选取最优模型的综合孔径图像反演方法。
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公开(公告)号：CN102914774A
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201210346376.9
申请日：2012-09-18
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01S13/90
Abstract: 本发明公开了一种综合孔径辐射计图像反演方法，该方法包括根据目标场景的可见度数据V和辐射计的冲击响应矩阵G获得可见度的概率测度初始值β和不同像素点i的概率测度初始值ai，计算GTG矩阵的特征值λi；计算后验概率的均值u和后验概率的方差∑T|V，更新β和a并判断可见度的概率测度更新值βnew和概率测度更新值anew是否同时收敛，若是则将可见度的概率测度更新值βnew、概率测度更新值anew、后验概率的均值u和后验概率的方差∑T|V代入公式p(T|G，anew，βnew)＝N(T|u，∑T|V)获得亮温图像分布T，若否，则返回进一步计算u和∑T|V。本发明能够有效的降低获得最优模型的计算复杂度，得到方差和偏差都较小的反演结果，减少噪声对反演结果的影响，有效的提高反演图像的分辨率，是一种可以自动的选取最优模型的综合孔径图像反演方法。
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