公开(公告)号：CN112705278A

公开(公告)日：2021-04-27

申请号：CN201911017320.7

申请日：2019-10-24

申请人： 华为技术有限公司

发明人： 商逸璇 ,  万江雪 ,  徐君 ,  赵远锦

IPC分类号： B01L3/00

摘要： 本申请提供了一种微阵列底板及其制备方法，该方法包括：通过光刻法在器皿上制备微阵列区域，所述微阵列区域中包括多个微坑；对所述微阵列区域进行固化，形成模具，所述模具为带有凸起的微阵列；通过所述模具制作亲疏水相间的第一微阵列底板，所述第一微阵列底板中包括亲水区和疏水区，所述亲水区中包括羟基。上述技术方案可以减小亲水点阵的直径，提高合成密度，支撑较大数量寡核苷酸的合成。

公开(公告)号：CN112442101A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN201911017315.6

申请日：2019-10-24

申请人： 华为技术有限公司

发明人： 商逸璇 ,  万江雪 ,  徐君 ,  赵远锦

IPC分类号： C07H21/04 ,  C07H21/00 ,  C07H1/00

摘要： 本申请提供了一种寡核苷酸的合成方法、合成装置。该方法包括：在第一微阵列底板的亲水区加入第一化合物，通过亲水区中的羟基和第一化合物的羧基进行反应，得到包括羧基的第二化合物，并在该亲水区通过第二化合物和带有羟基的胸苷进行反应，在该亲水区得到合成的寡核苷酸。上述技术方案可以仅对底板进行一次修饰，即可合成寡核苷酸，能够提高寡核苷酸的合成效率，降低寡核苷酸的制作成本，使得整个操作流程耗时较短。

公开(公告)号：CN112705278B

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN201911017320.7

申请日：2019-10-24

申请人： 华为技术有限公司

发明人： 商逸璇 ,  万江雪 ,  徐君 ,  赵远锦

IPC分类号： B01L3/00

摘要： 本申请提供了一种微阵列底板及其制备方法，该方法包括：通过光刻法在器皿上制备微阵列区域，所述微阵列区域中包括多个微坑；对所述微阵列区域进行固化，形成模具，所述模具为带有凸起的微阵列；通过所述模具制作亲疏水相间的第一微阵列底板，所述第一微阵列底板中包括亲水区和疏水区，所述亲水区中包括羟基。上述技术方案可以减小亲水点阵的直径，提高合成密度，支撑较大数量寡核苷酸的合成。