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公开(公告)号:CN106637103A
公开(公告)日:2017-05-10
申请号:CN201610890808.0
申请日:2016-10-12
Applicant: 南京华东电子信息科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种IGZO成膜设备的阳极稳定装置,包括设置在阳极周边的隔离组件,所述隔离组件具有供电子导出阳极的通道。本发明在IGZO成膜的阳极周边增设隔离组件,隔离组件能有效阻挡靶材分子溅射到阳极上,故阳极表面维持高电位,可有效快速的导出电子,整个空间电子分布更加均匀,降低电子聚集所带来的热效应,延长阳极使用寿命,维持阳极稳定,提高设备稼动率;同时隔离组件将阳极的底部全部遮盖,能够防止电子聚集在底部;此外,阳极通过隔离组件避免了IGZO绝缘膜沉积,整个阳极的电场均匀,不会造成因上下端膜层较薄所引起的中间电场弱两端电场强的问题,成膜速率稳定。
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公开(公告)号:CN106637103B
公开(公告)日:2019-04-05
申请号:CN201610890808.0
申请日:2016-10-12
Applicant: 南京华东电子信息科技股份有限公司 , 南京中电熊猫平板显示科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种IGZO成膜设备的阳极稳定装置,包括设置在阳极周边的隔离组件,所述隔离组件具有供电子导出阳极的通道。本发明在IGZO成膜的阳极周边增设隔离组件,隔离组件能有效阻挡靶材分子溅射到阳极上,故阳极表面维持高电位,可有效快速的导出电子,整个空间电子分布更加均匀,降低电子聚集所带来的热效应,延长阳极使用寿命,维持阳极稳定,提高设备稼动率;同时隔离组件将阳极的底部全部遮盖,能够防止电子聚集在底部;此外,阳极通过隔离组件避免了IGZO绝缘膜沉积,整个阳极的电场均匀,不会造成因上下端膜层较薄所引起的中间电场弱两端电场强的问题,成膜速率稳定。
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