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公开(公告)号:CN1606233A
公开(公告)日:2005-04-13
申请号:CN200410064686.7
申请日:2004-09-20
申请人: 南京大学
摘要: 本发明公开了一种基于NbN、AlN单晶薄膜制备技术的多层异质结构组成的体声波器件。采用射频磁控溅射和MOCVD的方法,以MgO单晶基片作为薄膜生长的种子层,在其上外延生长SiC、MgO、NbN、AlN多层异质外延薄膜,用微加工技术手段制备成器件。它包括MgO单晶衬底基片,NbN/AlN/NbN三层外延结构为体声波谐振器,其中NbN为器件电极;MgO、SiC和NbN外延薄膜组成的多层异质结构为体声波器件的布拉格反射器。本发明晶格失配小、能量损耗低,是一种具有极大实用价值和经济价值的体声波器件,广泛适用于微电子材料领域中。
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公开(公告)号:CN100442659C
公开(公告)日:2008-12-10
申请号:CN200410064686.7
申请日:2004-09-20
申请人: 南京大学
摘要: 本发明公开了一种基于NbN、AlN单晶薄膜制备技术的多层异质结构组成的体声波器件。采用射频磁控溅射和MOCVD的方法,以MgO单晶基片作为薄膜生长的种子层,在其上外延生长SiC、MgO、NbN、AlN多层异质外延薄膜,用微加工技术手段制备成器件。它包括MgO单晶衬底基片,NbN、AlN与NbN三层外延结构为体声波谐振器,其中NbN为器件电极;MgO、SiC和NbN外延薄膜组成的多层异质结构为体声波器件的布拉格反射器。本发明晶格失配小、能量损耗低,是一种具有极大实用价值和经济价值的体声波器件,广泛适用于微电子材料领域中。
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