无栅AlInN/GaN场效应晶体管传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN105353019B

    公开(公告)日:2018-02-02

    申请号:CN201510781080.3

    申请日:2015-11-13

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明提出了一种无栅AlInN/GaN场效应晶体管传感器,在AlInN/GaN异质结基片上蒸镀有电极,还包括钝化层,所述钝化层覆盖整个源端电极、源端电极PAD与漏端电极、漏端电极PAD,在覆盖源端电极PAD与漏端电极PAD的钝化层上刻蚀出窗口,深度至PAD显露;还包括离子印迹聚合物层,所述离子印迹聚合物层位于AlInN层上,含有印迹孔穴。还公开了无栅AlInN/GaN场效应晶体管传感器的制备方法。本发明制备的导电高聚物纳米复合材料具有单一离子识别的性能,可以提高器件的选择性吸附、抗干扰能力;与AlGaN/GaN场效应晶体管传感器相比,其电流响应更大,具有高灵敏性的特点。

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