公开(公告)号：CN214991834U

公开(公告)日：2021-12-03

申请号：CN202121336165.8

申请日：2021-06-16

申请人： 南京港锐电子科技有限公司

发明人： 董雷鸣 ,  闫苏霞 ,  王勇

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/50 ,  C23C16/455 ,  C23C16/46

摘要： 本实用新型涉及原子层沉积技术领域，且公开了一种等离子体增强的原子层沉积设备，包括真空反应腔、反应气、惰性气体瓶、前驱物输运模块、加热模块、分子真空泵、真空泵和废气处理系统，所述真空反应腔的上端固定连通有等离子发生腔，所述等离子发生腔的上端固定设置有等离子体发生腔进气口，所述等离子发生腔与真空反应腔的连接处设置有阀门，所述真空反应腔的上端对称连通有两个真空反应腔进气管，所述真空反应腔进气管位于真空反应腔内的一端固定连通有矩阵式进气喷嘴。本实用新型能够提高原子层沉积设备的工作效率，沉积均匀性，前驱物输运的效率和精准控制，便于清洗，能够提高维护的效率。