公开(公告)号：CN115354183B

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202211036782.5

申请日：2022-08-26

申请人： 南昌大学

发明人： 罗岚 ,  查栋 ,  刘勇 ,  徐宇豪 ,  黄昱昊 ,  吴相钢 ,  安浩瑾

IPC分类号： C22C1/06 ,  C22C23/06

摘要： 本发明公开了一种钆镁中间合金净化熔剂，所述净化熔剂包括以下组分：MgCl2、KCl、BaCl2、CaF2、GdCl3；各组分纯度需要99.99wt％以上，熔剂配比应根据钆镁中间合金密度加以调整，其配比范围为：37～44％MgCl2、25～37％KCl、10～18％BaCl2、2～5％CaF2、5～12％GdCl3。该熔剂具有显著降低Fe、Si等杂质、抑制稀土元素损耗、提高中间合金纯度效果。本发明中还可推广到其他稀土镁中间合金净化，如钇镁中间合金、钕镁中间合金、镧镁中间合金，其熔剂中的GdCl3可采用稀土氯化物替换。

公开(公告)号：CN114807839B

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202210440458.3

申请日：2022-04-25

申请人： 南昌大学

发明人： 罗岚 ,  赵嘉成 ,  刘勇 ,  王绳 ,  黄昱旲 ,  吴相钢 ,  安浩瑾

IPC分类号： C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/22 ,  A61L31/02 ,  A61L31/08 ,  A61L31/14

摘要： 本发明所提出的一种牙科用阶梯降解镁合金屏障膜及其制备方法。其制备方法为：(1)镁合金屏障膜的粗糙度控制；(2)TiN/TiO2纳米复合膜沉积。步骤(1)使得镁合金屏障膜整体呈现均匀降解，步骤(2)使得限制了体内植入4周(或体外1周Hank’s37℃溶液)的降解速度。所得到的牙科用阶梯降解镁合金屏障膜，粗糙度控制后屏障膜呈现均匀降解；镀膜后体内植入4周(或体外1周Hank’s37℃溶液)的降解速度明显降低；粗糙度+镀膜调控后呈现先慢后快的阶梯降解。本发明提出一种牙科用阶梯降解镁合金屏障膜，除用于牙科牙槽骨修复，还可用于颌骨、颅骨等骨修复临床。

公开(公告)号：CN115354183A

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN202211036782.5

申请日：2022-08-26

申请人： 南昌大学

发明人： 罗岚 ,  查栋 ,  刘勇 ,  徐宇豪 ,  黄昱昊 ,  吴相钢 ,  安浩瑾

IPC分类号： C22C1/06 ,  C22C23/06

摘要： 本发明公开了一种钆镁中间合金净化熔剂，所述净化熔剂包括以下组分：MgCl2、KCl、BaCl2、CaF2、GdCl3；各组分纯度需要99.99wt％以上，熔剂配比应根据钆镁中间合金密度加以调整，其配比范围为：37～44％MgCl2、25～37％KCl、10～18％BaCl2、2～5％CaF2、5～12％GdCl3。该熔剂具有显著降低Fe、Si等杂质、抑制稀土元素损耗、提高中间合金纯度效果。本发明中还可推广到其他稀土镁中间合金净化，如钇镁中间合金、钕镁中间合金、镧镁中间合金，其熔剂中的GdCl3可采用稀土氯化物替换。

公开(公告)号：CN114807839A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210440458.3

申请日：2022-04-25

申请人： 南昌大学

发明人： 罗岚 ,  赵嘉成 ,  刘勇 ,  王绳 ,  黄昱旲 ,  吴相钢 ,  安浩瑾

IPC分类号： C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/22 ,  A61L31/02 ,  A61L31/08 ,  A61L31/14

摘要： 本发明所提出的一种牙科用阶梯降解镁合金屏障膜及其制备方法。其制备方法为：(1)镁合金屏障膜的粗糙度控制；(2)TiN/TiO2纳米复合膜沉积。步骤(1)使得镁合金屏障膜整体呈现均匀降解，步骤(2)使得限制了体内植入4周(或体外1周Hank’s37℃溶液)的降解速度。所得到的牙科用阶梯降解镁合金屏障膜，粗糙度控制后屏障膜呈现均匀降解；镀膜后体内植入4周(或体外1周Hank’s37℃溶液)的降解速度明显降低；粗糙度+镀膜调控后呈现先慢后快的阶梯降解。本发明提出一种牙科用阶梯降解镁合金屏障膜，除用于牙科牙槽骨修复，还可用于颌骨、颅骨等骨修复临床。