公开(公告)号：CN113504410A

公开(公告)日：2021-10-15

申请号：CN202111067650.4

申请日：2021-09-13

申请人： 南通海星电子股份有限公司 ,  南通海一电子有限公司 ,  四川中雅科技有限公司

发明人： 周小兵 ,  陆云龙 ,  刘慧 ,  周红炎

IPC分类号： G01R27/02

摘要： 本发明公开一种铝电解电容器用电极箔接触电阻的测量方法，将制好的待测电极箔样品使用场效应成像方法测试，同时在场效应样品测试台上放置已知电阻的样品作为参照样本，一起场效应成像；成像后得到待测样品和参照样品的图像，观察待测电极箔样品与已知电阻样品的电阻分布，对图像利用灰度值进行数字化处理，同时对比参照样品成像的明暗度，形成函数关系，将待测试样品的图像数字化转化成对应电阻数据。该测量方法对测试样品没有物理损伤，有利于测量的重复性和再现性，从明暗度关系可以直观体现铆接范围内接触电阻的分布，为分析和改善接触电阻提供了方向，进而用于分析接触电阻不良的原因和工艺改善，有利于工艺制程的提升。

公开(公告)号：CN113504410B

公开(公告)日：2021-11-19

申请号：CN202111067650.4

申请日：2021-09-13

申请人： 南通海星电子股份有限公司 ,  南通海一电子有限公司 ,  四川中雅科技有限公司

发明人： 周小兵 ,  陆云龙 ,  刘慧 ,  周红炎

IPC分类号： G01R27/02

摘要： 本发明公开一种铝电解电容器用电极箔接触电阻的测量方法，将制好的待测电极箔样品使用场效应成像方法测试，同时在场效应样品测试台上放置已知电阻的样品作为参照样本，一起场效应成像；成像后得到待测样品和参照样品的图像，观察待测电极箔样品与已知电阻样品的电阻分布，对图像利用灰度值进行数字化处理，同时对比参照样品成像的明暗度，形成函数关系，将待测试样品的图像数字化转化成对应电阻数据。该测量方法对测试样品没有物理损伤，有利于测量的重复性和再现性，从明暗度关系可以直观体现铆接范围内接触电阻的分布，为分析和改善接触电阻提供了方向，进而用于分析接触电阻不良的原因和工艺改善，有利于工艺制程的提升。

公开(公告)号：CN114141540B

公开(公告)日：2023-12-22

申请号：CN202111497046.5

申请日：2021-12-09

申请人： 南通海星电子股份有限公司 ,  南通海一电子有限公司 ,  宁夏海力电子有限公司

发明人： 王建中 ,  陆云龙

IPC分类号： H01G9/045

摘要： 本发明公开一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法，属于铝电解电容器用高压铝箔制造技术领域，具体步骤包括：1）对铝箔光箔进行表面处理，提高光箔表面活性；2）预处理完成的铝箔进入液态掩膜剂槽内，在传动作用下铝箔从掩膜槽拉出，使所述掩膜剂在铝箔表面附着形成掩膜层；3）覆盖掩膜剂的铝箔经过干燥后表面形成掩膜干膜；4）通过使用预设好的图形在掩膜干膜面曝光形成均匀的圆孔形状；5）显影后露出均匀孔状的铝箔面；6）将完成显影的铝箔送入腐蚀槽，通过电化学腐蚀在铝箔正反表面形成均匀分布的腐蚀发孔。本发明制造方法能够有效地控制后期电腐蚀发孔的均匀分布，且易大面积加工，适合产线连续作业。

公开(公告)号：CN114141540A

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202111497046.5

申请日：2021-12-09

申请人： 南通海星电子股份有限公司 ,  南通海一电子有限公司 ,  宁夏海力电子有限公司

发明人： 王建中 ,  陆云龙

IPC分类号： H01G9/045

摘要： 本发明公开一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法，属于铝电解电容器用高压铝箔制造技术领域，具体步骤包括：1）对铝箔光箔进行表面处理，提高光箔表面活性；2）预处理完成的铝箔进入液态掩膜剂槽内，在传动作用下铝箔从掩膜槽拉出，使所述掩膜剂在铝箔表面附着形成掩膜层；3）覆盖掩膜剂的铝箔经过干燥后表面形成掩膜干膜；4）通过使用预设好的图形在掩膜干膜面曝光形成均匀的圆孔形状；5）显影后露出均匀孔状的铝箔面；6）将完成显影的铝箔送入腐蚀槽，通过电化学腐蚀在铝箔正反表面形成均匀分布的腐蚀发孔。本发明制造方法能够有效地控制后期电腐蚀发孔的均匀分布，且易大面积加工，适合产线连续作业。

公开(公告)号：CN215726949U

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN202122025206.8

申请日：2021-08-26

申请人： 南通海星电子股份有限公司 ,  南通海一电子有限公司 ,  四川中雅科技有限公司

发明人： 王建中 ,  张智源 ,  马晓光 ,  肖继红 ,  朱美龙 ,  陆云龙

IPC分类号： G01N1/08

摘要： 本实用新型涉及一种电极箔取样装置，包括冲裁模具、承托架。承托架用于辅助冲裁模具体，其包括有底板、顶板以及立柱。冲裁模具包括有上模板、前置冲裁刀、后置冲裁刀、下模板以及动力部。上模板布置于顶板的正下方。前置冲裁刀、后置冲裁刀均固定于上模板的底壁上，且沿着前后方向相并排而置。下模板布置于上模板的正下方。由下模板的顶壁分别向下延伸出有相并排而置的前置冲裁槽、后置冲裁槽。当预取样电极箔在下模板上放置到位后，动力部启动，上模板在驱动力的作用下相向于下模板进行位移运动，与此同时，前置冲裁刀、后置冲裁刀一一对应地进入到前置冲裁槽、后置冲裁槽内，预取样电极箔相邻区域因同时受到冲裁力作用而被分割出两个取样条。