用于测量小视场投影模组光学参数的方法与系统

    公开(公告)号:CN112556992A

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN201910909136.7

    申请日:2019-09-25

    IPC分类号: G01M11/02

    摘要: 一种用于测量小视场投影模组光学参数的方法与系统,属于投影模组检测技术领域。该用于测量小视场投影模组光学参数的方法,包括以下步骤:S1,安装被测投影模组和大靶面相机,使大靶面相机的感光平面与被测投影模组光轴垂直,且被测投影模组光心与大靶面相机中心始终对齐;S2,被测投影模组投影标准画面至大靶面相机感光片上,得到测试图像;S3,在被测投影模组的工作距离下,调节被测投影模组的对焦距离,使测试图像清晰;S4,对已调节清晰的测试图像进行图像分析,得到被测投影模组的光学参数。本发明能够获取小视场投影模组的投影用于投影模组光学性能的分析,易于操作。

    一种光栅片、结构光三维重建的投影装置和测量装置

    公开(公告)号:CN113218336A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202110349318.0

    申请日:2021-03-31

    IPC分类号: G01B11/25

    摘要: 本发明公开了一种光栅片、结构光三维重建的投影装置和测量装置,其中,光栅片包括:基板本体;基板本体包括与第一方向平行的一边,与第二方向平行的另一边,第一方向与第二方向垂直;沿第一方向基板本体设置有多个条纹,多个条纹的宽度沿第一方向依次增加,相邻条纹之间的间隔的宽度沿第一方向依次增加,多个条纹用于光线透过,相邻条纹之间的间隔用于阻挡光线透过,将投影装置倾斜放置时,经过结构光三维重建的投影装置可投影出等间距等周期的正弦相移条纹,提高了三维重建的精度。

    一种投影系统及投影仪
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113156753A

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN202110480914.2

    申请日:2021-04-30

    IPC分类号: G03B21/20 G03B21/00

    摘要: 本发明实施例公开了一种投影系统及投影仪,该投影系统包括出光模块、匀光模块、光调制模块、数字微镜阵列和投影成像模块。出光模块用于出射投影系统所需的发光光束。匀光模块包括匀光片,匀光片用于对发光光束进行匀光处理,形成匀光光束。光调制模块包括第一调制单元,第一调制单元用于调整匀光光束入射至数字微镜阵列。数字微镜阵列用于反射匀光光束形成反射光束,反射光束携带编码图案。光调制模块还包括第二调制单元,第二调制单元用于反射至少部分反射光束至投影成像模块。投影成像模块用于将反射光束投影至待投影位置。通过设置匀光片用于均匀发光光束,保证投影效果前提下,有效减少投影系统的体积,降低制作成本。

    一种投影装置及三维测量系统

    公开(公告)号:CN111031300A

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201911359524.9

    申请日:2019-12-25

    摘要: 本发明实施例公开了一种投影装置及三维测量系统。其中投影装置包括光源、图像显示芯片、投影镜头以及屏幕;光源用于为图像显示芯片提供照明光束;图像显示芯片用于提供待投影画面;图像显示芯片所在平面、投影镜头光轴的中垂面以及屏幕所在的平面相交于一条直线。本发明实施例的技术方案,通过设置图像显示芯片所在平面、投影镜头光轴的中垂面以及屏幕所在的平面相交于一条直线,以使图像显示芯片、投影镜头和屏幕满足沙姆定律,实现整个屏幕投影的图像清晰,扩大投影景深,提高3D重建的重建精度。

    一种投影装置及三维测量系统

    公开(公告)号:CN111031300B

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN201911359524.9

    申请日:2019-12-25

    摘要: 本发明实施例公开了一种投影装置及三维测量系统。其中投影装置包括光源、图像显示芯片、投影镜头以及屏幕;光源用于为图像显示芯片提供照明光束;图像显示芯片用于提供待投影画面;图像显示芯片所在平面、投影镜头光轴的中垂面以及屏幕所在的平面相交于一条直线。本发明实施例的技术方案,通过设置图像显示芯片所在平面、投影镜头光轴的中垂面以及屏幕所在的平面相交于一条直线,以使图像显示芯片、投影镜头和屏幕满足沙姆定律,实现整个屏幕投影的图像清晰,扩大投影景深,提高3D重建的重建精度。

    一种光栅片、结构光三维重建的投影装置和测量装置

    公开(公告)号:CN113218336B

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202110349318.0

    申请日:2021-03-31

    IPC分类号: G01B11/25

    摘要: 本发明公开了一种光栅片、结构光三维重建的投影装置和测量装置,其中,光栅片包括:基板本体;基板本体包括与第一方向平行的一边,与第二方向平行的另一边,第一方向与第二方向垂直;沿第一方向基板本体设置有多个条纹,多个条纹的宽度沿第一方向依次增加,相邻条纹之间的间隔的宽度沿第一方向依次增加,多个条纹用于光线透过,相邻条纹之间的间隔用于阻挡光线透过,将投影装置倾斜放置时,经过结构光三维重建的投影装置可投影出等间距等周期的正弦相移条纹,提高了三维重建的精度。

    用于测量小视场投影模组光学参数的方法与系统

    公开(公告)号:CN112556992B

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN201910909136.7

    申请日:2019-09-25

    IPC分类号: G01M11/02

    摘要: 一种用于测量小视场投影模组光学参数的方法与系统,属于投影模组检测技术领域。该用于测量小视场投影模组光学参数的方法,包括以下步骤:S1,安装被测投影模组和大靶面相机,使大靶面相机的感光平面与被测投影模组光轴垂直,且被测投影模组光心与大靶面相机中心始终对齐;S2,被测投影模组投影标准画面至大靶面相机感光片上,得到测试图像;S3,在被测投影模组的工作距离下,调节被测投影模组的对焦距离,使测试图像清晰;S4,对已调节清晰的测试图像进行图像分析,得到被测投影模组的光学参数。本发明能够获取小视场投影模组的投影用于投影模组光学性能的分析,易于操作。

    一种投影装置及三维测量系统

    公开(公告)号:CN210781136U

    公开(公告)日:2020-06-16

    申请号:CN201922366597.2

    申请日:2019-12-25

    摘要: 本实用新型实施例公开了一种投影装置及三维测量系统。其中投影装置包括光源、图像显示芯片、投影镜头以及屏幕;光源用于为图像显示芯片提供照明光束;图像显示芯片用于提供待投影画面;图像显示芯片所在平面、投影镜头光轴的中垂面以及屏幕所在的平面相交于一条直线。本实用新型实施例的技术方案,通过设置图像显示芯片所在平面、投影镜头光轴的中垂面以及屏幕所在的平面相交于一条直线,以使图像显示芯片、投影镜头和屏幕满足沙姆定律,实现整个屏幕投影的图像清晰,扩大投影景深,提高3D重建的重建精度。

    用于测量小视场投影模组光学参数的系统

    公开(公告)号:CN210571299U

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201921601136.2

    申请日:2019-09-25

    IPC分类号: G01M11/02

    摘要: 一种用于测量小视场投影模组光学参数的系统,属于投影模组检测技术领域。该用于测量小视场投影模组光学参数的系统包括:大靶面相机、被测投影模组、安装台和光学参数分析模组;被测投影模组和大靶面相机固定在安装台上,被测投影模组和大靶面相机之间的间距可调节,大靶面相机的感光平面与被测投影模组光轴垂直,且被测投影模组光心与大靶面相机中心始终对齐;大靶面相机用于获取被测投影模组投影的标准画面,大靶面相机与光学参数分析模组电连接输出图像电信号。本实用新型能够获取小视场投影模组的投影用于投影模组光学性能的分析,易于操作。