一种除硫酸钙垢反渗透膜清洗剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN113926314B

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN202111359592.2

    申请日:2021-11-17

    IPC分类号: B01D65/06

    摘要: 本发明公开了一种除硫酸钙垢反渗透膜清洗剂,其由以下原料按下述的质量百分比组成:pH调节剂1%‑3%、渗透剂2%‑4%、分散剂1%‑3%、软化剂2%‑5%、螯合剂3%‑6%、相转移催化剂1%‑3%、余量为水;还公开了一种除硫酸钙垢反渗透膜清洗剂的制备方法制备方法。本发明以pH调节剂、渗透剂、分散剂、软化剂、螯合剂及相转移催化剂为主要成分,通过渗透、软化、分散、螯合、催化等协同作用,能够安全、快速、高效去除膜表面CaSO4垢,使膜通量得到有效恢复、不易造成二次污染,同时,能够使得CaSO4晶体软化,清洗过程中不会划伤膜,也能够极大提高CaSO4垢的溶解速率,使得清洗效率大大提高。

    一种DTRO组件膜片的改性工艺
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113274880A

    公开(公告)日:2021-08-20

    申请号:CN202110706078.5

    申请日:2021-06-24

    IPC分类号: B01D61/02 B01D63/06

    摘要: 本发明公开了一种DTRO组件膜片的改性工艺,其利用EDC或EDC/NHS作为偶联剂,将DTRO组件膜表面的‑COOH进行活化,再利用活化后的‑COOH与含‑NH2的亲水性化合物之间的反应,将‑OH引入到膜表面,使得DTRO组件具有更强的亲水性,从而在不降低DTRO组件截留率的情况下,有效提高DTRO组件的产水通量及抗污染性能,同时,整个改性工艺运用特有循环系统直接对制成组件的DTRO膜片进行改性,成功实现了改性过程的流程化及规模化,兼具快捷、高效、易实现、可重复的特点,具有更广阔的应用前景。

    一种反渗透膜的硫垢清洗剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN113385042B

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN202110797540.7

    申请日:2021-07-14

    IPC分类号: B01D65/06

    摘要: 本发明公开了一种反渗透膜的硫垢清洗剂及其制备方法,清洗剂各组分按质量百分比计包括:主溶剂,占比为5%‑10%,所述主溶剂为二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺中的一种或几种;助溶剂,占比为1%‑5%;催化剂Ⅰ,占比为2%‑4%;催化剂Ⅱ,占比为1%‑3%,所述催化剂Ⅱ为相转移催化剂;螯合剂,占比为1%‑5%;表面活性剂,占比为2%‑5%;余量为水。本发明反渗透膜的硫垢清洗剂可有效去除膜表面上的硫污染、硫单质与无机金属和有机污染物所形成的复合污染,从而有效恢复膜通量,同时不会损坏膜片,还可提高其抗污染能力。

    一种反渗透膜硅垢清洗剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN114504948B

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202210147290.7

    申请日:2022-02-17

    IPC分类号: B01D65/02 B01D65/06

    摘要: 本发明公开了一种反渗透膜硅垢清洗剂及其制备方法,按质量百分比计包括:有机酸清洗剂占比为10%—25%,增效剂占比为3%—5%,分散剂占比为1%—5%,缓蚀剂占比为0.2%—0.3%,表面活性剂占比为2%—5%,余量为去离子水。本发明反渗透膜硅垢清洗剂以有机酸清洗剂、增效剂、分散剂、缓蚀剂及表面活性剂为主要成分,能够有效去除反渗透膜表面硅垢,且不造成二次污染,不损坏膜元件,并使膜通量能得到有效恢复。其中分散剂可使膜表面硅垢得到疏松、软化,协同表面活性剂可促使硅垢污染物从膜元件上快速脱落,使得清洗效率大大提高。

    一种废弃反渗透膜的改性再利用方法

    公开(公告)号:CN113457456A

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202110866852.9

    申请日:2021-07-29

    IPC分类号: B01D65/02 B01D65/00 B01D61/02

    摘要: 本发明公开了一种废弃反渗透膜的改性再利用方法,包括以下步骤:S1:清洗:利用碱性药剂或酸性药剂对反渗透膜进行循环升温清洗,同时超声辅助清洗,得到膜元件A;S2:氧化改性处理:利用改性装置采用氧化药剂对膜元件A表面进行氧化改性,依次采用高压循环升温法、循环浸泡法对膜元件A处理得到膜元件B;S3:羟基化改性处理:利用改性装置采用羟基化药剂对膜元件B表面进行羟基化改性,依次采用高压循环升温法、循环浸泡法对膜元件B处理得到最终改性完成的膜元件C。本发明一种废弃反渗透膜的改性再利用方法,使得废弃反渗透膜能得到合理利用,减少浪费及污染,同时改性过程较简单、耗时较短,改性后反渗透膜其脱盐率及通量均显著提升。

    一种反渗透膜的硫垢清洗剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN113385042A

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202110797540.7

    申请日:2021-07-14

    IPC分类号: B01D65/06

    摘要: 本发明公开了一种反渗透膜的硫垢清洗剂及其制备方法,清洗剂各组分按质量百分比计包括:主溶剂,占比为5%‑10%,所述主溶剂为二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺中的一种或几种;助溶剂,占比为1%‑5%;催化剂Ⅰ,占比为2%‑4%;催化剂Ⅱ,占比为1%‑3%,所述催化剂Ⅱ为相转移催化剂;螯合剂,占比为1%‑5%;表面活性剂,占比为2%‑5%;余量为水。本发明反渗透膜的硫垢清洗剂可有效去除膜表面上的硫污染、硫单质与无机金属和有机污染物所形成的复合污染,从而有效恢复膜通量,同时不会损坏膜片,还可提高其抗污染能力。

    一种反渗透膜硅垢清洗剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN114504948A

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN202210147290.7

    申请日:2022-02-17

    IPC分类号: B01D65/02 B01D65/06

    摘要: 本发明公开了一种反渗透膜硅垢清洗剂及其制备方法,按质量百分比计包括:有机酸清洗剂占比为10%—25%,增效剂占比为3%—5%,分散剂占比为1%—5%,缓蚀剂占比为0.2%—0.3%,表面活性剂占比为2%—5%,余量为去离子水。本发明反渗透膜硅垢清洗剂以有机酸清洗剂、增效剂、分散剂、缓蚀剂及表面活性剂为主要成分,能够有效去除反渗透膜表面硅垢,且不造成二次污染,不损坏膜元件,并使膜通量能得到有效恢复。其中分散剂可使膜表面硅垢得到疏松、软化,协同表面活性剂可促使硅垢污染物从膜元件上快速脱落,使得清洗效率大大提高。

    一种除硫酸钙垢反渗透膜清洗剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN113926314A

    公开(公告)日:2022-01-14

    申请号:CN202111359592.2

    申请日:2021-11-17

    IPC分类号: B01D65/06

    摘要: 本发明公开了一种除硫酸钙垢反渗透膜清洗剂,其由以下原料按下述的质量百分比组成:pH调节剂1%‑3%、渗透剂2%‑4%、分散剂1%‑3%、软化剂2%‑5%、螯合剂3%‑6%、相转移催化剂1%‑3%、余量为水;还公开了一种除硫酸钙垢反渗透膜清洗剂的制备方法制备方法。本发明以pH调节剂、渗透剂、分散剂、软化剂、螯合剂及相转移催化剂为主要成分,通过渗透、软化、分散、螯合、催化等协同作用,能够安全、快速、高效去除膜表面CaSO4垢,使膜通量得到有效恢复、不易造成二次污染,同时,能够使得CaSO4晶体软化,清洗过程中不会划伤膜,也能够极大提高CaSO4垢的溶解速率,使得清洗效率大大提高。

    一种用于DTRO组件膜片改性的循环系统

    公开(公告)号:CN214862553U

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202121415566.2

    申请日:2021-06-24

    IPC分类号: B01D61/02 B01D63/06

    摘要: 本实用新型公开了一种用于DTRO组件膜片改性的循环系统,用于对制成DTRO组件的膜片进行改性,包括通过输送管路依次连接的储料罐、输料泵及DTRO组件,所述DTRO组件的浓缩液输出端连接有一换热器并回流至储料罐而形成第一回路,所述DTRO组件的透过液输出端连接有一换热器并回流至储料罐而形成第二回路。本实用新型循环系统直接对制成DTRO组件的膜片进行改性,可避免因膜片切割而造成的浪费,此外,其打破了现有局限性实验室规模的现状,实现了改性过程的流程化及规模化,同时兼具快捷、高效、易实现、可重复的特点,使其具有广阔的应用前景。