一种餐具用清洁抑菌组合物
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118599603A

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202310202020.6

    申请日:2023-03-06

    发明人: 王耀

    摘要: 本发明涉及日化用品技术领域,尤其涉及IPC C11D1领域,更具体地,涉及一种餐具用清洁抑菌组合物。所述餐具用清洁抑菌组合物,其制备原料包括:阴离子表面活性剂、两性表面活性剂、杀菌剂、非离子表面活性剂、螯合剂、防腐剂、pH调节剂、香精、无机盐、水。本发明通过选用特定的两性表面活性剂、阴离子表面活性剂、杀菌剂以及非离子表面活性剂复配,并搭配无机盐、螯合剂等其他组分,制备得到的清洁抑菌组合物具有优异的耐热耐寒稳定性,且抑菌率高,泡沫丰富绵密,具有较高的清洁力度和粘稠度,非常适合用于清洁餐具。

    一种油水通用型碳化硅晶片的研磨液清洗剂

    公开(公告)号:CN118496930A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202410668712.4

    申请日:2024-05-28

    发明人: 陈中华 高建

    摘要: 本发明涉及一种油水通用型碳化硅晶片的研磨液清洗剂,属于清洗剂技术领域。该研磨液清洗剂包括以下质量分数的组分:改性脱污剂10‑15%、表面活性剂8‑12%、螯合剂2.8‑3.4%和分散剂3.2‑4.5%,余量为水;改性脱污剂分子链中部亲水、端部亲油,在油水体系中均能良好地分散,其链中的硅链段与碳化硅晶片和金刚石磨粒具有良好的浸润性,端部结构相较于硅链的浸润性较差,在清洗过程中,从链端部进行剥离,类似“胶带”将晶片表面的杂质剥离;在测试中,对油基和水基研磨液清洗后的清洁度值均不高于10RFU,具有优异的清洗能力。

    一种长效润滑保湿的隐形眼镜护理液及其制备方法

    公开(公告)号:CN118480411A

    公开(公告)日:2024-08-13

    申请号:CN202410543521.5

    申请日:2024-04-30

    摘要: 本申请提供了一种长效润滑保湿的隐形眼镜护理液,按质量份数计包括:润滑保湿成分0.1‑2份、去蛋白成分0.01‑0.5份、消毒成分0.0001‑0.01份、维生素脂质体0.01‑1份和纯化水95‑99份;润滑保湿成分包括透明质酸钠和羟丙甲纤维素;维生素脂质体包括表面含有改性壳聚糖的纳米脂质体和包埋于其内的维生素B12;使用状态下,维生素脂质体分散于由透明质酸钠和羟丙甲纤维素形成的复合保湿层中。通过使用透明质酸钠和羟丙甲纤维素作为润滑保湿成分,可以在镜片表面形成复合保湿层,有效维持水分并提升润滑性,提升佩戴舒适度;通过加入亲水改性的维生素纳米脂质体,可以确保营养成分长效持久地释放并作用于用户眼部。

    一种浓缩洗涤剂组合物
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114350453B

    公开(公告)日:2024-08-13

    申请号:CN202111529149.5

    申请日:2021-12-14

    摘要: 本发明涉及日用洗涤剂技术领域,具体涉及一种浓缩洗涤剂组合物,包括以下质量百分含量的组分:表面活性剂30‑70%,流变调节剂0.2‑10%,功能助剂0‑10%,香精0‑2%,水余量。其中所述流变调节剂包括重量比为1:1.2~5的组分a和组分b,所述组分a包括羟丙基瓜尔胶,所述组分b包括二甲苯磺酸盐和/或异丙苯磺酸盐。本发明的浓缩洗涤剂组合物能明显提高浓缩洗涤剂组合物的流动性,溶液成分均匀,流变性能佳,减少了非必要溶剂的使用,且不影响去污力。本发明制得的洗涤产品外观合格,低高温稳定性良好,可根据用量调节合适的使用粘度,提高单位剂量包装的填充效率,产品效果更加绿色、稳定。

    一种核酸、核酸酶污染清除剂及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN118421404A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410509691.1

    申请日:2024-04-26

    摘要: 本发明公开了一种核酸、核酸酶污染清除剂及其制备方法和应用,属于生物技术领域,包括如下含量的成分:碱性剂0.5‑1.0%,去垢剂0.2‑1.0%,氧化剂0.11‑0.15%,螯合剂1‑15mM。制备方法为先混合碱性剂水溶液和耐碱性的去垢剂,然后加入螯合剂水溶液,最后加入氧化剂混合均匀即可。应用于仪器设备和耗材器皿污染物的清除,还应用于实验台面、墙面、地面及空气中污染物的清除。本发明中核酸、核酸酶污染清除剂可同时清除核酸和核酸酶的污染,该清除剂所含成分简单,配制方便,为即用型单一溶液,使用前不需要进行额外的配制过程,方便使用;且酸碱性为碱性,相对于酸性溶液对金属表面腐蚀性小,无毒安全。

    一种放射性沾污去污液及其制备和应用

    公开(公告)号:CN115322840B

    公开(公告)日:2024-07-19

    申请号:CN202210948569.5

    申请日:2022-08-09

    发明人: 王明望

    摘要: 本发明属于去污液领域,具体公开了一种放射性沾污去污液及其制备和应用,所述放射性沾污去污液由螯合剂A组、有机溶剂B组、调节剂C组和助剂D组组成;以100重量份数计:所述螯合剂A组包括:羟基亚乙叉二膦酸3‑6份、二乙基三胺五乙酸五钠8‑12份、六偏磷酸钠2‑8份、焦磷酸钠3‑6份、乙二胺四乙酸二钠3‑6份;所述有机溶剂B组包括:乙酰丙酮3‑5份、甘氨酸2‑4份、水溶性壳聚糖0.1‑1份;所述调节剂C组包括:硼酸3‑6份、柠檬酸1‑3份、椰油酸二乙醇酰胺4‑10份;所述助剂D组包括:甘油3‑6份;余量为水。本发明所述去污液洗消效率高,腐蚀性小,可应用人体皮肤表面,室内环境和仪器仪表,适用场景多,可洗消的放射性核素种类多,使用范围广。