公开(公告)号：CN109163776A

公开(公告)日：2019-01-08

申请号：CN201811176016.2

申请日：2018-10-10

申请人： 厦门大学 ,  厦门大学深圳研究院

发明人： 朱锦锋 ,  陈玺钊 ,  王正瑛 ,  朱衫 ,  陈焕阳

IPC分类号： G01F19/00 ,  B82Y35/00

摘要： 本发明公开了一种基于纳米金属孔洞阵列的测量方法，包括如下步骤：步骤1：使用纳米压印技术在金属薄膜上压印出一系列周期性均匀分布的纳米金属孔洞；步骤2：选择合适的纳米金属孔洞阵列结构；金属薄膜的厚度是500nm；步骤3：采用垂直入射光进行照射，引起纳米金属孔洞表面等离激元效应，把入射光“限制”在纳米金属孔洞中，使得纳米金属孔洞中的电场强度局部增强；步骤3：通过光谱仪定量的分析等离激元谐振波长的变化；步骤4：通过液体体积与反射光谱谱线之间的对应关系即测量得到纳米金属孔洞中液体的体积；步骤5：采用品质因数来定量的分析测量的效果。本发明具有无破坏性，无侵入性，无标记等特点。

公开(公告)号：CN109163776B

公开(公告)日：2019-12-27

申请号：CN201811176016.2

申请日：2018-10-10

申请人： 厦门大学 ,  厦门大学深圳研究院

发明人： 朱锦锋 ,  陈玺钊 ,  王正瑛 ,  朱衫 ,  陈焕阳

IPC分类号： G01F19/00 ,  B82Y35/00

摘要： 本发明公开了一种基于纳米金属孔洞阵列的测量方法，包括如下步骤：步骤1：使用纳米压印技术在金属薄膜上压印出一系列周期性均匀分布的纳米金属孔洞；步骤2：选择合适的纳米金属孔洞阵列结构；金属薄膜的厚度是500nm；步骤3：采用垂直入射光进行照射，引起纳米金属孔洞表面等离激元效应，把入射光“限制”在纳米金属孔洞中，使得纳米金属孔洞中的电场强度局部增强；步骤3：通过光谱仪定量的分析等离激元谐振波长的变化；步骤4：通过液体体积与反射光谱谱线之间的对应关系即测量得到纳米金属孔洞中液体的体积；步骤5：采用品质因数来定量的分析测量的效果。本发明具有无破坏性，无侵入性，无标记等特点。