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公开(公告)号：CN100371817C
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200510126991.9
申请日：2005-11-29
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： G02F1/136 , G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 一种半穿透半反射式像素结构的制造方法，其包括下列步骤：首先，提供一基板。接着，于基板上形成一有源元件。然后，于基板上形成一保护层以覆盖住有源元件。接着，于保护层上形成一图案化介电层以覆盖住保护层的部分区域。之后，于图案化介电层的部分区域上形成一图案化反射层。接着，至少以图案化介电层为掩模，并移除未被图案化介电层所覆盖住的保护层，以暴露出有源元件。最后，于图案化反射层以及图案化介电层上形成一与有源元件电连接的像素电极。上述的半穿透半反射式像素结构的制造时间较短，且制造成本较低。
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公开(公告)号：CN1776510A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN200510126937.4
申请日：2005-11-28
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： G02F1/136 , G02F1/1339 , G02F1/1335
摘要： 一种液晶显示面板，其包括一有源阵列基板、一对向基板、一第一框胶、一液晶层、一上微粒阻障物与一第二框胶。其中，对向基板配置于有源阵列基板上方，而第一框胶配置于有源阵列基板与对向基板之间，此液晶显示面板还具有一液晶注入口。此外，液晶层位于有源阵列基板与对向基板之间，而上微粒阻障物配置于对向基板上，且对应于液晶注入口。另外，第二框胶配置于液晶注入口处。因此，在注入液晶层的过程中，上微粒阻障物可将微粒阻挡并限制住，进而避免液晶显示面板产生显示上的缺陷。
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公开(公告)号：CN100437302C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200610143121.7
申请日：2006-11-01
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1337 , G02F1/1333 , G02F1/136 , G02F1/133
摘要： 一种像素结构，为适用于一显示装置是由一液晶层夹设于一第一基板及一第二基板中所构成，像素结构包括：多个第一子像素、多个第二子像素和多个第三子像素；多个配向控制图案(alignment controlling pattern)，分别形成于所述的第一、第二和第三子像素中，以控制液晶层的液晶分子的配向方向；多个不透光区(opaque regions)，分别形成于所述的第一、第二和第三子像素中并实质上对应于所述的配向控制图案，且于所述的第一、第二和第三子像素中至少两种子像素的所述的配向控制图案是被不同面积的所述的不透光区所遮蔽。
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公开(公告)号：CN100354740C
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200510126937.4
申请日：2005-11-28
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： G02F1/136 , G02F1/1339 , G02F1/1335
摘要： 一种液晶显示面板，其包括一有源阵列基板、一对向基板、一第一框胶、一液晶层、一上微粒阻障物与一第二框胶。其中，对向基板配置于有源阵列基板上方，而第一框胶配置于有源阵列基板与对向基板之间，此液晶显示面板还具有一液晶注入口。此外，液晶层位于有源阵列基板与对向基板之间，而上微粒阻障物配置于对向基板上，且对应于液晶注入口。另外，第二框胶配置于液晶注入口处。因此，在注入液晶层的过程中，上微粒阻障物可将微粒阻挡并限制住，进而避免液晶显示面板产生显示上的缺陷。
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公开(公告)号：CN100368892C
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200610074043.X
申请日：2006-04-04
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/1333 , G02B5/23
摘要： 一种制作彩色滤光基板的方法。首先提供一基板，然后形成一双层干膜(dry film)于该基板的一表面，且该双层干膜具有一上层与一下层，接着对该双层干膜进行一图案转移工艺，以定义出多个档墙与多个凹槽，随后将至少一彩色滤光材料设置于各该凹槽中，然后移除该双层干膜的该上层。
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公开(公告)号：CN1877406A
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200610101130.X
申请日：2006-07-04
申请人： 友达光电股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种场序式液晶显示装置及其驱动方法，提供每一像素列的晶体管栅极充足的导通时间，并且可实现高分辨率的场序式液晶显示器。本发明实施例中的扫描驱动器，于每一扫描期间内同时扫描控制相邻的至少二像素列，以导通晶体管。同时于该扫描期间，分别传送图像数据给上述的至少二像素列，使得像素列内的电容可以根据图像数据作充电。
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公开(公告)号：CN1776511A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN200510126991.9
申请日：2005-11-29
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： G02F1/136 , G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 一种半穿透半反射式像素结构的制造方法，其包括下列步骤：首先，提供一基板。接着，于基板上形成一有源元件。然后，于基板上形成一保护层以覆盖住有源元件。接着，于保护层上形成一图案化介电层以覆盖住保护层的部分区域。之后，于图案化介电层的部分区域上形成一图案化反射层。接着，至少以图案化介电层为掩模，并移除未被图案化介电层所覆盖住的保护层，以暴露出有源元件。最后，于图案化反射层以及图案化介电层上形成一与有源元件电连接的像素电极。上述的半穿透半反射式像素结构的制造时间较短，且制造成本较低。
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公开(公告)号：CN100392501C
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200510059131.8
申请日：2005-03-24
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1337 , G02F1/133
摘要： 本发明提供一种光学补偿双折射型液晶配向添加剂及包含其的液晶显示装置及制造方法。该光学补偿双折射型液晶配向添加剂包含一种或一种以上的可聚合单体，经照射后可在配向层上形成具有液晶排列记忆效果的聚合物，使液晶分子可沿着该聚合物记忆的方向快速地从斜展态转换至弯曲态，以致液晶显示装置无需使用特殊的高压驱动回路而仅需一般驱动即可快速达到稳态。
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公开(公告)号：CN1825184A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200610074043.X
申请日：2006-04-04
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/1333 , G02B5/23
摘要： 一种制作彩色滤光基板的方法。首先提供一基板，然后形成一双层干膜(dry film)于该基板的一表面，且该双层干膜具有一上层与一下层，接着对该双层干膜进行一图案转移工艺，以定义出多个档墙与多个凹槽，随后将至少一彩色滤光材料设置于各该凹槽中，然后移除该双层干膜的该上层。
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公开(公告)号：CN1601345A
公开(公告)日：2005-03-30
申请号：CN200410083728.1
申请日：2004-10-14
申请人： 友达光电股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/136 , G02F1/133 , H01L29/786 , H01L21/00
摘要： 本发明为一种显示器面板制造方法，该显示器面板包括一支撑结构层以支撑于两基板延伸区之间以抵抗施于该延伸区的压力；该制造方法包括：提供一彩色滤光基板表面具有一显示区与一延伸区；形成一滤光材料层于该彩色滤光基板上表面；随后图案化该滤光材料层以定义一画素层于该显示区，同时定义一支撑结构层于该延伸区。当该彩色滤光基板上表面与一薄膜晶体管基板下表面相对而接合两基板时，该支撑结构层支撑于该两基板延伸区之间以抵抗施于该延伸区的压力。
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