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公开(公告)号：CN110082950A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201910435794.7
申请日：2019-05-23
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1335
摘要： 本发明提供一种彩膜基板及其制备方法和显示面板。该彩膜基板包括基底，还包括设置在基底上的彩膜结构，彩膜结构包括非周期性纳米结构层和导光结构层，非周期性纳米结构层设置在基底一侧，导光结构层设置于非周期性纳米结构层的背离基底的一侧，导光结构层能使入射光线以不同的入射角度入射至不同子像素所在区域内的非周期性纳米结构层上；非周期性纳米结构层能使入射光发生耦合和干涉，以使不同子像素所在区域射出不同颜色的光。该彩膜基板能在不牺牲透过率的基础上提升色域，还能减弱由离子型不纯物导致的显示面板内部的直流偏置电场，从而改善由直流偏置电场所导致的显示残像。
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公开(公告)号：CN110082950B
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201910435794.7
申请日：2019-05-23
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1335
摘要： 本发明提供一种彩膜基板及其制备方法和显示面板。该彩膜基板包括基底，还包括设置在基底上的彩膜结构，彩膜结构包括非周期性纳米结构层和导光结构层，非周期性纳米结构层设置在基底一侧，导光结构层设置于非周期性纳米结构层的背离基底的一侧，导光结构层能使入射光线以不同的入射角度入射至不同子像素所在区域内的非周期性纳米结构层上；非周期性纳米结构层能使入射光发生耦合和干涉，以使不同子像素所在区域射出不同颜色的光。该彩膜基板能在不牺牲透过率的基础上提升色域，还能减弱由离子型不纯物导致的显示面板内部的直流偏置电场，从而改善由直流偏置电场所导致的显示残像。
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公开(公告)号：CN113156717A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110444591.1
申请日：2021-04-23
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1339
摘要： 本申请提供了一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置，其中，显示面板包括开口区域和非开口区域，显示面板包括：对盒设置的第一基板和第二基板，以及填充于第一基板和第二基板之间的液晶层；第一基板包括：第一衬底，以及设置在第一衬底靠近第二基板一侧的隔垫物；第二基板包括：第二衬底，以及设置在第二衬底靠近第一基板一侧的隔垫平台，隔垫平台位于非开口区域内；其中，隔垫物与隔垫平台相对设置，且隔垫物远离第一衬底的第一表面在第二衬底上的正投影，位于隔垫平台远离第二衬底的第二表面在第二衬底上的正投影范围内。通过在第二基板上设置与隔垫物相对的隔垫平台，可以提升显示亮度的均一性。
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公开(公告)号：CN113015934B
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN201980001525.8
申请日：2019-08-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02B27/00 , G02F1/1333
摘要： 一种偏光片，包括：依次层叠设置的第一保护层、偏光层和第二保护层；以及，设置在所述第一保护层和所述第二保护层中的至少一个的背离所述偏光层的一侧的扩散层，所述扩散层配置为使穿过所述扩散层的至少一部分光线发生扩散。
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公开(公告)号：CN113015934A
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN201980001525.8
申请日：2019-08-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02B27/00 , G02F1/1333
摘要： 一种偏光片，包括：依次层叠设置的第一保护层、偏光层和第二保护层；以及，设置在所述第一保护层和所述第二保护层中的至少一个的背离所述偏光层的一侧的扩散层，所述扩散层配置为使穿过所述扩散层的至少一部分光线发生扩散。
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公开(公告)号：CN112782887A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201911083857.3
申请日：2019-11-07
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335
摘要： 本发明实施例提供了一种显示面板和显示装置。显示面板包括相对设置的第一基板、第二基板以及设置在所述第一基板和第二基板之间的第一液晶层，所述第一基板或第二基板上设置有用于吸收近红外光的吸收层。本发明通过在第一基板或第二基板上设置吸收层，吸收层用于吸收通过显示面板的近红外光，消除了偏光片的固有漏光，降低了显示面板的L0亮度，最大限度地提高了静态对比度。
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公开(公告)号：CN112034648A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201910806956.3
申请日：2019-08-29
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/13363 , G02F1/1362 , G02F1/1333
摘要： 本申请提供一种显示装置。该显示装置包括依次层叠的第一偏光片、第一液晶面板、第二偏光片、第二液晶面板和第三偏光片，所述第二偏光片包括两层保护层、以及位于所述两层保护层之间的偏光层；其中，所述第二偏光片的两层保护层中靠近所述第一液晶面板的所述保护层的面内光程差补偿值Ro小于100nm，且厚度方向上光程差补偿值Rth小于1000nm。本申请通过设置双层液晶面板的具体结构，可提升显示装置的对比度；更进一步，通过设置第二偏光片的两层保护层中靠近第一液晶面板的保护层的面内光程差补偿值Ro以及厚度方向上光程差补偿值Rth的取值范围，可以更进一步实现提高显示装置的对比度的有益效果。
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公开(公告)号：CN216387684U
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202120849776.6
申请日：2021-04-23
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1339
摘要： 本申请提供了一种显示面板及显示装置，其中，显示面板包括开口区域和非开口区域，显示面板包括：对盒设置的第一基板和第二基板，以及填充于第一基板和第二基板之间的液晶层；第一基板包括：第一衬底，以及设置在第一衬底靠近第二基板一侧的隔垫物；第二基板包括：第二衬底，以及设置在第二衬底靠近第一基板一侧的隔垫平台，隔垫平台位于非开口区域内；其中，隔垫物与隔垫平台相对设置，且隔垫物远离第一衬底的第一表面在第二衬底上的正投影，位于隔垫平台远离第二衬底的第二表面在第二衬底上的正投影范围内。通过在第二基板上设置与隔垫物相对的隔垫平台，可以提升显示亮度的均一性。
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公开(公告)号：CN113518943A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN201980002637.5
申请日：2019-11-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/1362 , G02F1/1343
摘要： 一种阵列基板(21)、调光液晶面板及显示面板。阵列基板(21)包括：具有多个狭缝结构(2130)的第一透明电极层(213)，第一透明电极层(213)包括多个畴(3)，多个畴(3)包括至少两类畴(3a、3b)，每个畴(3)沿行向和列向均与不同类的畴(3)相邻，位于同一类畴(3)的狭缝结构(2130)的延伸方向相同，位于不同类畴(3)的狭缝结构(2130)的延伸方向不同；沿行向延伸的多根栅线(211)以及沿列向延伸的多根数据线(212)，多根栅线(211)与多根数据线(212)交叉界定出呈阵列状排布的多个调光区(20)，每个调光区(20)与第一透明电极层(213)的至少两类畴(3)相交叠。
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公开(公告)号：CN118829940A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202380007821.5
申请日：2023-02-15
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
IPC分类号： G02F1/1362
摘要： 本公开的阵列基板及显示装置，包括具有显示区的衬底基板；在显示区呈阵列排布的像素电极组，像素电极组包括第一、第二像素电极，第一、第二像素电极在行方向和列方向上分别交替设置；贯穿像素电极组间列间隙的数据线，第一像素电极与相邻数据线耦接，第二像素电极与同一像素电极组内第一像素电极耦接的数据线相连；在像素电极组间行间隙处连接第二像素电极与数据线的连接结构；贯穿像素电极组内列间隙的公共电极线，公共电极线与连接结构之间具有第一电容；在像素电极组间行间隙处且与第一像素电极耦接的补偿结构，补偿结构与公共电极线之间具有第二电容，第二电容包括在垂直于衬底基板上相互交叠的三层导电层结构。
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