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公开(公告)号：CN101414119B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200810051345.4
申请日：2008-10-28
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明涉及一种用微米级模板构筑亚微米或纳米级模板的方法。其是利用纳米压印技术，通过控制聚合物薄膜的厚度和所用模板图案尺寸的比例关系，在聚合物表面制作具有边缘效应结构的双脊结构图案，利用等离子刻蚀技术把这种双脊结构图案转移到基底上；或者直接用聚二甲基硅氧烷(PDMS)翻制边缘结构来构筑软模板；也可以直接用模板压印紫外曝光胶(mr-NIL6000)得到具有边缘效应的结构，紫外曝光固化后，利用其形成的图案做模板进行纳米压印，从而实现了用微米级模板构筑亚微米或纳米级的模板。利用本方法制作的边缘结构模板，具有成本低廉、工艺简单、耗时短、分辨率高的特点，可以制作大面积的亚微米或纳米级模板。
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公开(公告)号：CN101414119A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810051345.4
申请日：2008-10-28
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明涉及一种用微米级模板构筑亚微米或纳米级模板的方法。其是利用纳米压印技术，通过控制聚合物薄膜的厚度和所用模板图案尺寸的比例关系，在聚合物表面制作具有边缘效应结构的双脊结构图案，利用等离子刻蚀技术把这种双脊结构图案转移到基底上；或者直接用聚二甲基硅氧烷(PDMS)翻制边缘结构来构筑软模板；也可以直接用模板压印紫外曝光胶(mr－NIL6000)得到具有边缘效应的结构，紫外曝光固化后，利用其形成的图案做模板进行纳米压印，从而实现了用微米级模板构筑亚微米或纳米级的模板。利用本方法制作的边缘结构模板，具有成本低廉、工艺简单、耗时短、分辨率高的特点，可以制作大面积的亚微米或纳米级模板。
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