公开(公告)号：CN100381421C

公开(公告)日：2008-04-16

申请号：CN200480030948.6

申请日：2004-10-04

申请人： 和光纯药工业株式会社

发明人： 角野元重 ,  深沢和仁 ,  今关重明 ,  渡边哲也

IPC分类号： C07C381/12

CPC分类号： C07C381/12

摘要： 本发明涉及通式[4]所示的三芳基锍盐的制造方法，该方法可以有效地制造三芳基锍盐中仅一个芳香环不同于另外两个芳香环的三芳基锍盐，所述制造方法的特征在于，在与对氧具有高亲和性的活化剂的共存下，使通式[1]所示的二芳基亚砜与通式[2]所示的芳基格氏试剂进行反应，然后与通式[3]所示的强酸或其盐反应；所述对氧具有高亲和性的活化剂相对于所述二芳基亚砜为3当量～7.5当量；所述通式[2]为RMgX，其中R表示具有或不具有取代基的芳基，所述取代基与上述通式[1]中的R1不同，X表示卤原子；所述通式[3]为HA1，其中A1表示强酸残基。

公开(公告)号：CN1871212A

公开(公告)日：2006-11-29

申请号：CN200480030948.6

申请日：2004-10-04

申请人： 和光纯药工业株式会社

发明人： 角野元重 ,  深沢和仁 ,  今关重明 ,  渡边哲也

IPC分类号： C07C381/12

CPC分类号： C07C381/12

摘要： 本发明涉及通式[4]所示的三芳基锍盐的制造方法，该方法可以有效地制造三芳基锍盐中仅一个芳香环不同于另外两个芳香环的三芳基锍盐，所述制造方法的特征在于，在与对氧具有高亲和性的活化剂的共存下，使通式[1]所示的二芳基亚砜与通式[2]所示的芳基格氏试剂进行反应，然后与通式[3]所示的强酸或其盐反应；所述对氧具有高亲和性的活化剂相对于所述二芳基亚砜为3当量～7.5当量；所述通式[2]为RMgX，其中R表示具有或不具有取代基的芳基，所述取代基与上述通式[1]中的R1不同，X表示卤原子；所述通式[3]为HA1，其中A1表示强酸残基。

公开(公告)号：CN1297537C

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN01814742.9

申请日：2001-06-27

申请人： 和光纯药工业株式会社

发明人： 石原正巳 ,  角野元重 ,  深沢和仁 ,  片野直树 ,  今关重明

IPC分类号： C07C321/30 ,  C07C67/30 ,  C07C53/15 ,  C08L25/18 ,  C08K5/36 ,  C08K5/41 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC分类号： C07C53/21 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

摘要： 本发明公开了通式[1]所示化合物和该化合物与重氮二砜化合物形成的组合物：(式中，R1，R2和R3各自独立地表示芳香族烃残基，Yn-表示由具有氟原子的碳数3或以上的羧酸衍生的阴离子，n表示1或2。条件是，R1，R2和R3为在邻位和/或间位具有取代基的苯基的情况除外)。如果将该化合物或该化合物与重氮二砜形成的组合物用作抗蚀剂的酸产生剂，具有所谓改善超微细图案的外形或侧壁粗糙的效果。而且，该化合物也可以用作光阳离子性聚合引发剂。

公开(公告)号：CN1449379A

公开(公告)日：2003-10-15

申请号：CN01814742.9

申请日：2001-06-27

申请人： 和光纯药工业株式会社

发明人： 石原正巳 ,  角野元重 ,  深沢和仁 ,  片野直树 ,  今关重明

IPC分类号： C07C321/30 ,  C07C67/30 ,  C07C53/15 ,  C08L25/18 ,  C08K5/36 ,  C08K5/41 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC分类号： C07C53/21 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

摘要： 本发明公开了通式[1]所示化合物和该化合物与重氮二砜化合物形成的组合物(式中，R1，R2和R3各自独立地表示芳香族烃残基，Yn－表示由具有氟原子的碳数3或以上的羧酸衍生的阴离子，n表示1或2。条件是，R1，R2和R3为在邻位和/或间位具有取代基的苯基的情况除外。)。如果将该化合物或该化合物与重氮二砜形成的组合物用作抗蚀剂的酸产生剂，具有所谓改善超微细图案的外形或侧壁粗糙的效果。而且，该化合物也可以用作光阳离子性聚合引发剂。