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公开(公告)号:CN118914204B
公开(公告)日:2025-05-23
申请号:CN202411018180.6
申请日:2024-07-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开一种基于差分分数阶涡旋光束的暗场共焦显微测量装置与方法,涉及光学精密测量领域,该装置包括:分数阶涡旋光模块,用于生成第一分数阶涡旋光和第二分数阶涡旋光;光学扫描模块,用于将第一分数阶涡旋光和第二分数阶涡旋光分别对样品进行扫描,得到第一信号回光和第二信号回光;暗场探测模块,用于分别对第一信号回光和第二信号回光进行暗场探测,得到第一分数阶散射暗场图像和第二分数阶散射暗场图像;差分暗场散射图像确定模块,用于将第一分数阶散射暗场图像和第二分数阶散射暗场图像进行差分,得到差分暗场散射图像;缺陷确定模块,用于对差分暗场散射图像进行处理,得到样品缺陷。本发明可提升成像信噪比,提高缺陷检测的灵敏度。
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公开(公告)号:CN116482107A
公开(公告)日:2023-07-25
申请号:CN202310253087.2
申请日:2023-03-16
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于涡旋二向色性的暗场共焦显微测量装置与方法,属于光学精密测量技术领域。包括阵列涡旋光产生模块、阵列涡旋光照明模块和阵列暗场共焦探测模块;阵列涡旋光产生模块的阵列涡旋波片生成涡旋光照明阵列涡旋光照明模块的样品,阵列暗场共焦探测模块提取散射信号,并对相反阶数涡旋光照明下的收集的散射信号作差。直接分析一阶涡旋照明下的散射信号,可提取亚表面划痕、磨损及亚表面裂痕、气泡等缺陷的三维分布信息;分析相反阶涡旋光照明下的散射信号差值,可获取微纳结构的手性信息。
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公开(公告)号:CN116465909A
公开(公告)日:2023-07-21
申请号:CN202310246370.2
申请日:2023-03-15
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01N21/958 , G01N21/19
Abstract: 本发明公开了一种基于圆二向色性的暗场热波共焦显微测量装置,包括:时分复用圆偏光产生光路在同一周期内,交替产生左旋圆偏振光和右旋圆偏振光,作为热波探测光;热波探测光整形光路对热波探测光进行整形;热波泵浦光产生光路产生热波泵浦光,对热波泵浦光进行调制后与接收的热波探测光进行合束,得到合束光;光束照明光路将合束光照射至待测样品,并接收热波反射及散射光;暗场平衡探测光路接收整形后的热波探测光,并提取热波反射及散射光中的热波探测光的散射光,根据热波探测光的参照光与散射光之间的差频信号得到圆二向色性热波暗场信号。本发明可获取样品缺陷的多种物理性质及微纳结构的手性信息。
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公开(公告)号:CN118914200B
公开(公告)日:2025-05-23
申请号:CN202411010369.0
申请日:2024-07-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本申请公开了一种基于螺旋变换的涡旋二色性暗场共焦显微测量装置,涉及光学精密测量技术领域,相反阶涡旋光束产生模块用于产生混合涡旋光束,样品扫描模块用于利用混合涡旋光束照射待测样品的扫描位置,得到样品反射光束,螺旋变换模块用于对样品反射光束进行空间分离,得到空间分离光束,多阶探测模块用于对空间分离光束进行探测,得到扫描位置的涡旋二色性信号强度,当待测样品的扫描位置无缺陷时,涡旋二色性信号强度为0,当待测样品的扫描位置存在缺陷时,涡旋二色性信号强度不为0,且涡旋二色性信号强度的正负性与缺陷的左旋手性和右旋手性分别对应,从而可以探索三维集成电路层间缺陷的手性特性。
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公开(公告)号:CN118914199A
公开(公告)日:2024-11-08
申请号:CN202411010366.7
申请日:2024-07-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本申请公开了一种基于涡旋干涉的暗场共焦显微测量装置,涉及光学精密测量技术领域,涡旋光产生模块用于产生预定阶数的涡旋光,涡旋光干涉模块用于将涡旋光分为参考光和成像光,利用成像光照射待测样品的扫描位置,得到扫描位置的样品反射光,并使参考光和样品反射光进行重合干涉,得到干涉光,干涉光的光斑为花瓣状,旋转解调模块用于对干涉光进行旋转解调,得到扫描位置的振幅和相位信息,从而可表征缺陷的振幅和相位信息,实现相位型缺陷的检测。
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公开(公告)号:CN116577334A
公开(公告)日:2023-08-11
申请号:CN202310247164.3
申请日:2023-03-15
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于矢量偏振光束的差分暗场共焦显微测量装置与方法,属于光学精密测量技术领域。包括矢量偏振照明光产生模块、光束扫描照明模块和差分暗场共焦成像模块;通过调整半波片和涡旋波片,分别产生径向偏振信号光和角向偏振信号光,并控制声光调制器将光束调制为脉冲形式,实现在同一周期内,径向偏振信号光和角向偏振信号光交替进行照明,时间占比均为50%。同时利用照射在待测样品反射后的矢量偏振光偏振态不发生改变的特性,经由涡旋波片和偏振片,只收集散射信号。同时分析径向偏振信号光和角向偏振信号光分别照明下的散射信号差值,可以对亚表面划痕、磨损及亚表面裂痕、气泡等缺陷的三维分布信息进行超分辨检测成像。
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公开(公告)号:CN116297485A
公开(公告)日:2023-06-23
申请号:CN202310241601.0
申请日:2023-03-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01N21/88 , G02B21/06 , G01N21/01 , G01N21/958
Abstract: 本发明公开了一种基于涡旋量子关联的涡旋谱暗场显微测量装置及方法,包括:纠缠光源产生模块、样品照明探测模块和涡旋谱提取模块;纠缠光源产生模块按照光线传播方向依次为:激光器、半波片、BBO晶体、低通滤波器和非偏振分束器一;样品照明探测模块按照光线传播方向依次为:单模光纤一、管镜一、物镜一、待测样品、物镜二、管镜二、透镜一、透镜二、单模光纤二和SPAD探测器一;涡旋谱提取模块按照光线传播方向依次为:反射镜一、反射镜二、液晶空间光调制器一、透镜三、透镜四、单模光纤三和SPAD探测器二。
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公开(公告)号:CN116297192A
公开(公告)日:2023-06-23
申请号:CN202310247098.X
申请日:2023-03-15
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了基于角度照明的暗场傅里叶光场显微测量装置与方法,包括:倾斜光束照明模块、x方向暗场傅里叶光场探测模块、y方向暗场傅里叶光场探测模块和z方向暗场傅里叶光场探测模块;倾斜光束照明模块,用于将一系列互不相关照明光束进行光场的转接、分束和聚焦,照明光束以倾角α照射在待测样品上,实现倾斜照明,形成x、y和z方向的散射光;x、y和z方向的暗场傅里叶光场探测模块,用于分别对对应三个方向上的散射光通过收集、傅里叶光场分解和收集图像信号,并通过光场重聚焦算法进行计算重整;通过对暗场傅里叶光场信息进行分析,重建高对比度的暗场图像,实现三维样品的快速重建;利用收集的散射信号实现各方向上的分辨力一致。
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公开(公告)号:CN117517318B
公开(公告)日:2024-11-08
申请号:CN202311425900.6
申请日:2023-10-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01N21/88 , G02B21/06 , G02B21/10 , G02B26/10 , G02B6/02 , G02B27/10 , G02B27/30 , G02F1/01 , G01N21/49 , G01N21/01
Abstract: 基于涡旋分量排序的暗场共焦显微测量装置及方法,它涉及一种暗场共焦显微测量装置及方法。本发明为了解决传统共焦显微测量的亚表面缺陷无损检测技术检测维度单一,无法实现缺陷的复杂几何特性表征及物理特性分析,亚表面缺陷判定准确率不足的问题。本发明所述测量装置包括高斯照明模块、涡旋排序模块、线阵探测模块和三维位移台;待测样品设置在三维位移台上,所述高斯照明模块发射的激光照射在待测样品上,待测样品的反射光经由所述高斯照明模块和所述涡旋排序模块后由所述线阵探测模块接收。本发明属于光学精密测量技术领域。
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公开(公告)号:CN116482107B
公开(公告)日:2024-09-10
申请号:CN202310253087.2
申请日:2023-03-16
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于涡旋二向色性的暗场共焦显微测量装置与方法,属于光学精密测量技术领域。包括阵列涡旋光产生模块、阵列涡旋光照明模块和阵列暗场共焦探测模块;阵列涡旋光产生模块的阵列涡旋波片生成涡旋光照明阵列涡旋光照明模块的样品,阵列暗场共焦探测模块提取散射信号,并对相反阶数涡旋光照明下的收集的散射信号作差。直接分析一阶涡旋照明下的散射信号,可提取亚表面划痕、磨损及亚表面裂痕、气泡等缺陷的三维分布信息;分析相反阶涡旋光照明下的散射信号差值,可获取微纳结构的手性信息。
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