在钛及钛合金基体上制备氮掺杂微孔二氧化钛可见光光催化层的方法

    公开(公告)号:CN100567561C

    公开(公告)日:2009-12-09

    申请号:CN200810064640.3

    申请日:2008-05-30

    Abstract: 在钛及钛合金基体上制备氮掺杂微孔二氧化钛可见光光催化层的方法,它涉及一种制备二氧化钛可见光光催化层的方法。它解决了现有技术制备的TiO2光催化材料会增加空间站的发射重量及材料发生脱落的问题。方法:一、钛及钛合金进行氧等离子体离子注入处理;二、氦等离子体离子注入处理;三、退火处理;四、氩等离子体剥蚀,得表面形成微孔的钛及钛合金;五、氮离子注入处理,即在钛及钛合金基体上制备得到氮掺杂微孔二氧化钛可见光光催化层。本发明所得材料不发生脱落,不增加空间站的发射重量。

    大面积类金刚石碳膜低温制备方法及装置

    公开(公告)号:CN1196401A

    公开(公告)日:1998-10-21

    申请号:CN97103251.3

    申请日:1997-04-17

    Abstract: 本发明提出一种材料表面大面积类金刚石碳膜低温制备方法及装置,具体说是在密闭的真空室内充入含碳气体,并对工件施加负高压电脉冲,激发等离子体,在工件温度不变的条件下,在其表面形成一层膜基间无界面的大面积类金刚石碳膜。其装置为一个具有封闭磁场的真空室,室外设高压脉冲电源及磁场,室内设工件台或支架及高电压引入电极,以及油冷、水冷系统。采用本发明可以对成批工件,在其表面制取一层无界面的高结合力的类金刚石碳膜。

    在钛及钛合金基体上制备氮掺杂微孔二氧化钛可见光光催化层的方法

    公开(公告)号:CN101307431A

    公开(公告)日:2008-11-19

    申请号:CN200810064640.3

    申请日:2008-05-30

    Abstract: 在钛及钛合金基体上制备氮掺杂微孔二氧化钛可见光光催化层的方法,它涉及一种制备二氧化钛可见光光催化层的方法。它解决了现有技术制备的TiO2光催化材料会增加空间站的发射重量及材料发生脱落的问题。方法:1.钛及钛合金进行氧等离子体离子注入处理;2.氦等离子体离子注入处理;3.退火处理;4.氩等离子体剥蚀,得表面形成微孔的钛及钛合金;5.氮离子注入处理,即在钛及钛合金基体上制备得到氮掺杂微孔二氧化钛可见光光催化层。本发明所得材料不发生脱落,不增加空间站的发射重量。

    大面积类金刚石碳膜低温制备方法及装置

    公开(公告)号:CN1065925C

    公开(公告)日:2001-05-16

    申请号:CN97103251.3

    申请日:1997-04-17

    Abstract: 本发明提出一种材料表面大面积类金刚石碳膜低温制备方法及装置,具体说是在密闭的真空室内充入含碳气体,并对工件施加负高压电脉冲,激发等离子体,在工件温度不变的条件下,在其表面形成一层膜基间无界面的大面积类金刚石碳膜。其装置为一个具有封闭磁场地真空室,室外设高压脉冲电源及磁场,室内设工件台或支架及高电压引入电极,以及油冷、水冷系统。采用本发明可以对成批工件,在其表面制取一层无界面的高结合力的类金刚石碳膜。

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