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公开(公告)号：CN108649319A
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201810444326.1
申请日：2018-05-10
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种分步展开式固面天线机构，它涉及通信技术领域。本发明解决了现有的固面反射面天线存在结构过于复杂、展开位置不可控、型面精度及刚度较低以及机构展开时出现的零部件运动干涉的问题。本发明的中心底座安装在支撑座的上部，联动滑盘位于中心底座与支撑座之间，电机固定在支撑座上，电机与联动滑盘之间设有丝杠丝母机构，中心底座上沿周向均布多个基本可展单元；抛物面面板的背部设有支撑桁架结构和锁定组件，抛物面面板通过展开连杆组件与中心底座连接，锁紧释放装置组件置于展开连杆组件的内部，抛物面面板的背部通过支撑组件与联动滑盘铰接。本发明具有较高的型面精度和展开精度，最大限度上避免了机构展开时面板间出现的运动干涉问题。
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公开(公告)号：CN102002666B
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201010515721.8
申请日：2010-10-22
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种铜互联用氮化钽扩散阻挡层的制备方法，它涉及一种氮化钽扩散阻挡层的制备方法。本发明解决现有氮化钽沉积技术制备得到的氮化钽阻挡层厚度大、致密性差，导致氮化钽阻挡层的阻挡效果差的问题。制备方法：将衬底清洗后置于过滤阴极电弧沉积设备真空仓内的样品台上；然后对衬底进行离子清洗；抽真空后，将样品台加热，然后通入氮气，然后调入扫描波形，设置沉积参数；然后开启过滤阴极电弧沉积设备即可。铜互联用氮化钽扩散阻挡层厚度为10～20nm，而且阻挡层致密性好，表面均匀平整，能够保证后续电沉积铜层的优良质量；同时高温扩散阻挡性高，氮化钽扩散阻挡层受温度为600℃的热处理90分钟后，无铜硅化合物产生。
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公开(公告)号：CN108649319B
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201810444326.1
申请日：2018-05-10
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种分步展开式固面天线机构，它涉及通信技术领域。本发明解决了现有的固面反射面天线存在结构过于复杂、展开位置不可控、型面精度及刚度较低以及机构展开时出现的零部件运动干涉的问题。本发明的中心底座安装在支撑座的上部，联动滑盘位于中心底座与支撑座之间，电机固定在支撑座上，电机与联动滑盘之间设有丝杠丝母机构，中心底座上沿周向均布多个基本可展单元；抛物面面板的背部设有支撑桁架结构和锁定组件，抛物面面板通过展开连杆组件与中心底座连接，锁紧释放装置组件置于展开连杆组件的内部，抛物面面板的背部通过支撑组件与联动滑盘铰接。本发明具有较高的型面精度和展开精度，最大限度上避免了机构展开时面板间出现的运动干涉问题。
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公开(公告)号：CN102002666A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010515721.8
申请日：2010-10-22
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种铜互联用氮化钽扩散阻挡层的制备方法，它涉及一种氮化钽扩散阻挡层的制备方法。本发明解决现有氮化钽沉积技术制备得到的氮化钽阻挡层厚度大、致密性差，导致氮化钽阻挡层的阻挡效果差的问题。制备方法：将衬底清洗后置于过滤阴极电弧沉积设备真空仓内的样品台上；然后对衬底进行离子清洗；抽真空后，将样品台加热，然后通入氮气，然后调入扫描波形，设置沉积参数；然后开启过滤阴极电弧沉积设备即可。铜互联用氮化钽扩散阻挡层厚度为10～20nm，而且阻挡层致密性好，表面均匀平整，能够保证后续电沉积铜层的优良质量；同时高温扩散阻挡性高，氮化钽扩散阻挡层受温度为600℃的热处理90分钟后，无铜硅化合物产生。
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