公开(公告)号：CN104400659B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201410597723.4

申请日：2014-10-29

申请人： 哈尔滨工业大学

发明人： 李洪玉 ,  张伟 ,  陈宇鑫 ,  秦强运 ,  董慧莲

IPC分类号： B24B57/02

摘要： 独立控制外部循环的抛光液进给系统，它涉及一种数控抛光设备的抛光液进给系统，属于超精密光学加工设备领域。本发明的目的是解决现有数控抛光设备抛光液循环系统只能使用一种抛光液、且加工不同尺寸工件时抛光液用量不可控的局限性的问题。独立控制外部循环的抛光液进给系统由抛光液容器、抛光封闭室和气动搅拌装置组成。优点：一、实现了一台设备可以使用多种抛光液，克服了传统抛光设备“一台设备一种抛光液”的局限，提高了设备的加工能力；二、抛光液的用量可以根据被加工件的口径进行控制，有效降低了加工成本；三、本发明使用方便、稳定可控、造价低。本发明独立控制外部循环的抛光液进给系统主要用于为数控抛光设备提供抛光液。

公开(公告)号：CN104400659A

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201410597723.4

申请日：2014-10-29

申请人： 哈尔滨工业大学

发明人： 李洪玉 ,  张伟 ,  陈宇鑫 ,  秦强运 ,  董慧莲

IPC分类号： B24B57/02

CPC分类号： B24B57/02

摘要： 独立控制外部循环的抛光液进给系统，它涉及一种数控抛光设备的抛光液进给系统，属于超精密光学加工设备领域。本发明的目的是解决现有数控抛光设备抛光液循环系统只能使用一种抛光液、且加工不同尺寸工件时抛光液用量不可控的局限性的问题。独立控制外部循环的抛光液进给系统由抛光液容器、抛光封闭室和气动搅拌装置组成。优点：一、实现了一台设备可以使用多种抛光液，克服了传统抛光设备“一台设备一种抛光液”的局限，提高了设备的加工能力；二、抛光液的用量可以根据被加工件的口径进行控制，有效降低了加工成本；三、本发明使用方便、稳定可控、造价低。本发明独立控制外部循环的抛光液进给系统主要用于为数控抛光设备提供抛光液。