一种基于MEMS工艺的光纤声压传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN114279551B

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202111562112.2

    申请日:2021-12-20

    Abstract: 本发明公开了一种基于MEMS工艺的光纤声压传感器及其制备方法,属于光纤传感器技术领域。本发明解决了现有光纤声压传感器由于初始腔长相位差不准确,进而导致传感器解调效果不好的问题。本发明传感器包括两个光纤组件和夹层结构,夹层结构为SOI‑空气‑硅的夹层结构,具体的支撑结构层为框架结构与第二Si基层形成第一方形槽,SiO2层和第一Si层上刻蚀有方形通孔,该方形通孔与SOI衬底层构成第二方形槽,两个方形槽连通在夹层结构内形成密封腔。两个方形槽的存在使传感器具有两个长度不等的F‑P腔,继而使两路干涉信号相位差保持恒定,从而获得两路正交信号,后续结合双F‑P腔正交测量法,实现对声压信号的精准测量。

    一种基于MEMS工艺的光纤声压传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN114279551A

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN202111562112.2

    申请日:2021-12-20

    Abstract: 本发明公开了一种基于MEMS工艺的光纤声压传感器及其制备方法,属于光纤传感器技术领域。本发明解决了现有光纤声压传感器由于初始腔长相位差不准确,进而导致传感器解调效果不好的问题。本发明传感器包括两个光纤组件和夹层结构,夹层结构为SOI‑空气‑硅的夹层结构,具体的支撑结构层为框架结构与第二Si基层形成第一方形槽,SiO2层和第一Si层上刻蚀有方形通孔,该方形通孔与SOI衬底层构成第二方形槽,两个方形槽连通在夹层结构内形成密封腔。两个方形槽的存在使传感器具有两个长度不等的F‑P腔,继而使两路干涉信号相位差保持恒定,从而获得两路正交信号,后续结合双F‑P腔正交测量法,实现对声压信号的精准测量。

Patent Agency Ranking