镀膜筒体和镀膜筒体的使用方法

    公开(公告)号:CN115613001B

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202211321667.2

    申请日:2022-10-26

    IPC分类号: C23C14/50 C23C14/35 C23C14/54

    摘要: 本公开涉及一种镀膜筒体和镀膜筒体的使用方法,包括底座、张紧组件和筒壁,其中张紧组件包括多个调节杆、多个张紧杆和驱动件,多个调节杆水平延伸地设置在底座上,多个调节杆以底座的中心为辐射点,呈辐射状均匀地围绕底座布置,多个张紧杆一一对应地设置在多个调节杆上,张紧杆竖直设置且配置为沿调节杆的延伸方向移动,驱动件设置在底座上,用于驱动多个张紧杆沿调节杆的延伸方向移动,筒壁围合在多个张紧杆的外周并被张紧杆抵顶,以形成多边形横截面。通过上述技术方案,针对不同尺寸的平面产品,镀膜筒体能够被调节成不同形状或者是在原有形状的基础上进行等比例进行缩放调节,提高磁控溅射镀膜作业的效率。

    镀膜筒体和镀膜筒体的使用方法

    公开(公告)号:CN115613001A

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN202211321667.2

    申请日:2022-10-26

    IPC分类号: C23C14/50 C23C14/35 C23C14/54

    摘要: 本公开涉及一种镀膜筒体和镀膜筒体的使用方法,包括底座、张紧组件和筒壁,其中张紧组件包括多个调节杆、多个张紧杆和驱动件,多个调节杆水平延伸地设置在底座上,多个调节杆以底座的中心为辐射点,呈辐射状均匀地围绕底座布置,多个张紧杆一一对应地设置在多个调节杆上,张紧杆竖直设置且配置为沿调节杆的延伸方向移动,驱动件设置在底座上,用于驱动多个张紧杆沿调节杆的延伸方向移动,筒壁围合在多个张紧杆的外周并被张紧杆抵顶,以形成多边形横截面。通过上述技术方案,针对不同尺寸的平面产品,镀膜筒体能够被调节成不同形状或者是在原有形状的基础上进行等比例进行缩放调节,提高磁控溅射镀膜作业的效率。

    真空防污膜制备装置、制备系统及制备方法

    公开(公告)号:CN116288167A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310063732.4

    申请日:2023-01-11

    摘要: 本公开提供一种真空防污膜制备装置,包括药液系统、加热装置、旋转机构及滑动伸缩装置,药液系统与加热装置连接,用于将药液输送到加热装置上,加热装置通过旋转机构带动进行上下反复移动,形成活动蒸发区域,能够满足3D异形或者大尺寸镀膜需求,滑动伸缩装置连接控制加热装置,以实现所述加热装置的水平移动,同时,提供对应的装置系统及制备方法,本申请的真空防污膜制备装置通过上下循环反复移动,形成活动蒸发区域,可以有效增加坩埚蒸发膜层的覆盖范围,相比固定位置的覆盖范围有明显提升;同时坩埚的90°翻转,使其正面口朝向待镀膜产品,实现最大作用的发散角,使得在镀膜制造中能有效改善膜层均匀性。

    一种光学组件与显示装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118818640A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202411034143.4

    申请日:2024-07-30

    IPC分类号: G02B1/10 G02B1/115 G09F9/30

    摘要: 本公开涉及一种光学组件与显示装置,该光学组件包括基体层和在所述基体层上依次设置的防眩光层和防反射层;所述防眩光层包括氧化硅;所述防反射层包括交替层叠设置的五个高折射率子层和五个低折射率子层;每个所述高折射率子层的折射率为1.6~4.0,每个所述低折射率子层的折射率为1.38~2.5,且所述高折射率子层的折射率大于所述低折射率子层的折射率;沿远离所述防眩光层的方向,每个高折射率子层和每个低折射率子层具有特定范围的厚度。本公开的光学组件在满足常规光学指标的条件下,具有防眩光、防反射和多角度颜色一致的效果。

    显示基板加工方法和显示屏

    公开(公告)号:CN115340302A

    公开(公告)日:2022-11-15

    申请号:CN202210970271.4

    申请日:2022-08-12

    摘要: 本申请提供一种显示基板加工方法和显示屏,属于显示加工领域。该方法包括:选择厚度为3.0~10.0mm的玻璃基板,对玻璃基板进行物理强化依次包括加热和风冷,加热条件包括:对玻璃基板上下两表面同步加热,玻璃基板的上表面加热温度为650℃‑750℃,玻璃基板的下表面加热温度为640℃‑740℃,上表面加热温度比下表面加热温度高2‑15℃,加热时间为120s‑400s;风冷依次包括第一冷却和第二冷却,第一冷却包括用第一风压为4.0~10Kpa的冷却空气冷却,第一风冷时间为100s‑250s;第二冷却包括用第二风压为2.0~4.0Kpa的冷却空气冷却,第二风冷时间为50s‑250s,第一风压比第二风压高2.0~6.0Kpa;对物理强化之后的玻璃基板进行后处理,得到所述显示基板。本发明可以增加显示基板的抗冲击能力、抗污能力及抗红外线的效果。