公开(公告)号：CN103606502A

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：CN201310571367.4

申请日：2013-11-15

申请人： 四川虹欧显示器件有限公司

发明人： 韩荣 ,  刘衍伟 ,  段冰 ,  彭钦华 ,  嘉洪 ,  陈富贵 ,  李新亮

IPC分类号： H01J9/50

CPC分类号： Y02W30/828

摘要： 本发明涉及等离子显示器中障壁制造材料及加工工艺，尤其是一种障壁修复浆料以及其修复方法，其特征在于：所述修复浆料由质量百分比为70-92%的玻璃粉体系和8-30%有机体系组成；其中，玻璃粉体系中各组份和各组份质量百分比为：Bi2O360-70%、Al2O35-20%、ZnO3-10%、B2O32-10%、SiO21-5%，各组份含量满足百分百；有机体系各组份和各组份质量百分比为：溶剂70-94.5%，聚合物4-15%、增塑剂1%-15%、添加剂0.5-8%，各组份含量满足百分百。本发明中的等离子显示器中障壁修复浆料熔点低，修复点附着力强、不易脱落，修复方法操作简单、修复率高。使用本发明中的修复浆料和修复方法进行等离子障壁制造，代替了传统障壁修复材料及修复工艺方法，工艺流程更简单、加工效率更高、量产性能更好、成本更低的等离子显示屏与等离子电视机。

公开(公告)号：CN103050352A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201210565215.9

申请日：2012-12-24

申请人： 四川虹欧显示器件有限公司

发明人： 刘衍伟 ,  高永刚 ,  李新亮

IPC分类号： H01J9/20

摘要： 本发明公开了一种PDP障壁新型再生方法，该方法是指将障壁下层涂敷至障壁烧结炉前产生的障壁再生基板投入障壁烧结炉中进行烧结，然后将烧结后的障壁再生基板进行下线、将障壁膜层出现异常的再生基板和出现的障壁图形尺寸不良的再生基板也进行下线处理；然后将这些再生基板投入障壁刻蚀机进行刻蚀；最后将完全刻蚀后的再生基板进行下线后按正常屏工艺流程进行再次涂敷。本发明还公开了一种再生液—障壁刻蚀液硝酸，采用硝酸与障壁材料的无机粉末进行反应，最终使障壁材料与基板分离开，达到再生效果。本方法不仅解决了再生机对障壁干燥后的基板再生不完全的难题，同时能对障壁烧结后的不良基板进行再生，为公司降本做出了重要贡献。

公开(公告)号：CN203643741U

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201320721170.X

申请日：2013-11-15

申请人： 四川虹欧显示器件有限公司

发明人： 刘衍伟 ,  韩荣 ,  陈富贵 ,  段冰 ,  魏兴龙

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本实用新型涉及一种等离子显示屏制造用障壁曝光设备，尤其是涉及一种新型障壁曝光机间隔计测单元。本实用新型所要解决的技术问题是：针对现有技术存在的问题，提供了一种新型障壁曝光机间隔计测单元，可用间隔传感器支架对UV光线进行遮挡，同时间隔传感器支架结构的变化及母版间隔窗口面积减小，更能有效对UV光进行遮挡，克服即不出现图形残留又不出现曝光不足问题。本实用新型通过间隔传感器支架结构变化，将间隔传感器支架厚度进行减少，再增加一个小挡片，使得支架总遮光面积减小，可以防止间隔传感器支架遮挡面积太大，出现曝光不足的问题。