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发明公开
一种PDP障壁新型再生方法失效

公开(公告)号：CN103050352A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201210565215.9

申请日：2012-12-24

申请人： 四川虹欧显示器件有限公司

发明人： 刘衍伟 , 高永刚 , 李新亮

IPC分类号： H01J9/20

摘要： 本发明公开了一种PDP障壁新型再生方法，该方法是指将障壁下层涂敷至障壁烧结炉前产生的障壁再生基板投入障壁烧结炉中进行烧结，然后将烧结后的障壁再生基板进行下线、将障壁膜层出现异常的再生基板和出现的障壁图形尺寸不良的再生基板也进行下线处理；然后将这些再生基板投入障壁刻蚀机进行刻蚀；最后将完全刻蚀后的再生基板进行下线后按正常屏工艺流程进行再次涂敷。本发明还公开了一种再生液—障壁刻蚀液硝酸，采用硝酸与障壁材料的无机粉末进行反应，最终使障壁材料与基板分离开，达到再生效果。本方法不仅解决了再生机对障壁干燥后的基板再生不完全的难题，同时能对障壁烧结后的不良基板进行再生，为公司降本做出了重要贡献。