用于在太阳能电池制作中使用的专用注入系统和方法

    公开(公告)号:CN102099870A

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN200980127944.2

    申请日:2009-06-11

    IPC分类号: G21K5/10

    摘要: 使用注入掺杂制作系统来更高效和成本更低地制作太阳能电池和其它半导体器件。一种用于注入半导体衬底的系统包括离子源(比如单核素交付模块)、用于从离子源生成能量不多于150kV的离子束的加速器和用于使衬底暴露于该束的束导向器。在一个实施例中,离子源为包括单气体交付元件和单离子源的单核素交付模块。可替代地,离子源为用来生成等离子体束的等离子体源。该系统用来制作具有轻度掺杂受光区和更重度掺杂网格线的太阳能电池。这一结构减少“死层”的形成并且改进了接触电阻、由此增加了太阳能电池的效率。

    使用注入和退火方法的太阳能电池-选择性发射极的形成

    公开(公告)号:CN102150278A

    公开(公告)日:2011-08-10

    申请号:CN200980128202.1

    申请日:2009-06-11

    IPC分类号: H01L31/0368 H01L31/0376

    摘要: 一种形成太阳能电池的方法,该方法包括:提供具有预先掺杂区域的半导体晶片;执行掺杂物至该半导体晶片中的第一离子注入,以在预先掺杂区域之上形成第一掺杂区域,其中第一离子注入具有浓度比对深度分布;以及执行掺杂物至该半导体晶片中的第二离子注入,以在预先掺杂区域之上形成第二掺杂区域,其中所述第二离子注入具有与第一离子注入的浓度比对深度分布不同的浓度比对深度分布,其中第一掺杂区域和第二掺杂区域中的至少一个区域被配置成在接收到光时生成电子-空穴对,并且其中第一离子注入和第二离子注入彼此独立地执行。