公开(公告)号：CN1261632A

公开(公告)日：2000-08-02

申请号：CN99126503.3

申请日：1999-12-17

申请人： 国际商业机器公司

发明人： M·阿西埃 ,  S·L·蒂斯达勒

IPC分类号： C25D17/00 ,  C25D21/12

CPC分类号： H05K3/241 ,  C25D7/0642 ,  C25D7/0657 ,  C25D7/0685 ,  C25D21/12 ,  Y10S204/07

摘要： 用于完成电沉积、涂覆或蚀刻的传送系统;具体而言,利用流体头装置来选择性电解金属化和沉积的装置。提供与用于选择性电解金属化和电镀、涂覆或蚀刻所采用的传送系统中正处理的产品产生电接触并保持电接触的方法。与正处理的产品产生电接触并保持电接触的方法可以利用流体头装置。

公开(公告)号：CN1252322C

公开(公告)日：2006-04-19

申请号：CN99126503.3

申请日：1999-12-17

申请人： 国际商业机器公司

发明人： M·阿西埃 ,  S·L·蒂斯达勒

IPC分类号： C25D17/00 ,  C25D21/12

CPC分类号： H05K3/241 ,  C25D7/0642 ,  C25D7/0657 ,  C25D7/0685 ,  C25D21/12 ,  Y10S204/07

摘要： 用于完成电沉积、涂覆或蚀刻的传送系统；具体而言，利用流体头装置来选择性电解金属化和沉积的装置。提供与用于选择性电解金属化和电镀、涂覆或蚀刻所采用的传送系统中正处理的产品产生电接触并保持电接触的方法。与正处理的产品产生电接触并保持电接触的方法可以利用流体头装置。