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公开(公告)号：CN112951739A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202011421992.7
申请日：2020-12-08
申请人： 圆益IPS股份有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687
摘要： 本发明作为一种基板支撑架，包括：基座，形成有上面凹陷形成的圆盘形状的多个口袋槽部，以在上面沿着周围方向安装基板；轴，连接于基座下部以旋转驱动基座；及附属件，安装在口袋槽部，并且在上面安装基板；其中，基座包括：升降气体孔部，为了漂浮附属件而形成在口袋槽部中心部分，并且喷射通过形成在基座内部的第一升降气体流道流进的升降气体；及运动气体孔部，为了旋转驱动在口袋槽部漂浮的附属件而形成在口袋槽部边缘部分，并且喷射通过形成在基座内部的第一运动气体流道流进的运动气体；轴包括：第二升降气体流道，将从外部供应的升降气体传递至第一升降气体流道；及第二运动气体流道，将从外部供应的运动气体传递至第一运动气体流道。
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公开(公告)号：CN118668181A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202311338306.3
申请日：2023-10-16
申请人： 圆益IPS股份有限公司
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/67 , C23C16/52 , C23C16/44 , C23C16/458 , C23C16/46
摘要： 根据本发明的一实施例的基板处理装置，包括：工艺腔室，在内部形成反应空间；基板支撑部，具有基座板与多个真空孔、真空线路，并且分别设置在所述反应空间来支撑多个基板，所述多个真空孔形成在所述基座板的上面，所述真空线路通过所述多个真空孔分别与配置在外部的泵连接；气体喷射部，包括多个气体喷射单元，所述多个气体喷射单元与所述基板支撑部相向的同时呈放射状配置，以向所述反应空间喷射工艺气体；及控制部，根据通过所述气体喷射部供应的气体的种类调节所述多个基板的固定力。
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公开(公告)号：CN102576661B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201080038519.9
申请日：2010-08-24
申请人： 圆益IPS股份有限公司
IPC分类号： H01L21/20
CPC分类号： C23C16/45551 , C23C16/45565 , C23C16/45574 , H01L21/68764 , H01L21/68771
摘要： 本发明提供一种气体喷射装置和使用其的基底处理设备。该气体喷射装置包括多个气体喷射单元，多个气体喷射单元布置在基底支承部件上方，基底支承部件以可旋转的方式布置在腔室内以支承多个基底，多个气体喷射单元相对于基底支承部件的中心点沿圆周方向布置以将处理气体喷射到基底上。其中，多个气体喷射单元中的每一个均包括：顶板，顶板中设置有构造成引入处理气体的入口；以及喷射板，喷射板布置在顶板下方以沿基底支承部件的半径方向在喷射板与顶板之间限定气体扩散空间，喷射板具有在气体扩散空间下方的多个气体喷射孔，以将经入口引入并在气体扩散空间内扩散的处理气体喷射到基底上。在多个气体喷射单元中的至少一个气体喷射单元中，处理气体在多个点引入气体扩散空间。
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公开(公告)号：CN102576661A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080038519.9
申请日：2010-08-24
申请人： 圆益IPS股份有限公司
IPC分类号： H01L21/20
CPC分类号： C23C16/45551 , C23C16/45565 , C23C16/45574 , H01L21/68764 , H01L21/68771
摘要： 本发明提供一种气体喷射装置和使用其的基底处理设备。该气体喷射装置包括多个气体喷射单元，多个气体喷射单元布置在基底支承部件上方，基底支承部件以可旋转的方式布置在腔室内以支承多个基底，多个气体喷射单元相对于基底支承部件的中心点沿圆周方向布置以将处理气体喷射到基底上。其中，多个气体喷射单元中的每一个均包括：顶板，顶板中设置有构造成引入处理气体的入口；以及喷射板，喷射板布置在顶板下方以沿基底支承部件的半径方向在喷射板与顶板之间限定气体扩散空间，喷射板具有在气体扩散空间下方的多个气体喷射孔，以将经入口引入并在气体扩散空间内扩散的处理气体喷射到基底上。在多个气体喷射单元中的至少一个气体喷射单元中，处理气体在多个点引入气体扩散空间。
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