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公开(公告)号：CN105144009A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201480022775.7
申请日：2014-04-16
申请人： 埃西勒国际通用光学公司
发明人： L·马塞普瓦 , S·莫里斯 , L·马丁 , B·霍尔沃特·维尔马奥特
IPC分类号： G05B19/418 , B29D11/00 , G02C7/02
CPC分类号： B29D11/00961 , G05B19/41865 , G05B2219/2237 , G05B2219/32036 , G05B2219/34417 , G05B2219/36103 , G05B2219/45175 , Y02P90/20
摘要： 本发明提出了一种用于制造眼镜片的计算系统(1)，该计算系统包括：-与和所述眼镜片的制造过程相关的一部分计算相关联的计算模块的一个集合(M1，M2，M3，M4)，-一个管理单元(MU)，该管理单元被配置成用于：-接收输入数据，-通过以下各项的一次或若干次迭代来计算输出数据：-确定一个或若干个有待激活的计算模块，-确定该一个或若干个计算模块的激活顺序，-根据所确定的激活顺序来激活所确定的一个或若干个计算模块，并且-传输已经计算出该输出数据的指示。
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公开(公告)号：CN101351299B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200680049637.3
申请日：2006-12-26
申请人： 埃西勒国际通用光学公司
摘要： 一种用于光学元件的抛光机，包括：设置为旋转驱动光学元件(4)的心轴(3)；相对心轴可动的抛光工具(5)；其中抛光机还包括安装在工作室(2)顶部的平台(41)，工作室包括心轴和保持体部的平台，抛光工具安装在该体部上。
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公开(公告)号：CN101326031A
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：CN200780000586.X
申请日：2007-04-18
申请人： 埃西勒国际通用光学公司
CPC分类号： B24B13/02 , B24D9/08 , Y10S451/921
摘要： 该工具包括：一具有一横向端面(113)的刚性支架(104)；一贴靠并覆盖所述端面的可弹性压缩的界面；一适于贴靠光学表面的软缓冲垫，该缓冲垫贴靠并至少部分覆盖与所述端面(113)相反并与该端面垂直相对的界面；使该支架(104)与横向位于端面(113)以外的软缓冲垫的周边部分连接的弹性回位部件(115)；以及一属于一底座(130)的柔性环状体(131)，所述刚性支架(104)也属于底座(130)，其由所述环状体(131)包围。
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公开(公告)号：CN101351300B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200680049625.0
申请日：2006-12-20
申请人： 埃西勒国际通用光学公司
摘要： 一种用于光学元件的抛光机，包括：-设置为旋转驱动光学元件的心轴；-相对心轴可动的抛光工具；-设有门的前表面，以允许通到心轴和抛光工具；其中抛光机安装在体部上，所述体部通过第一轴线旋转安装在滑动装置上，所述滑动装置与所述前表面基本垂直。
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公开(公告)号：CN101326031B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200780000586.X
申请日：2007-04-18
申请人： 埃西勒国际通用光学公司
CPC分类号： B24B13/02 , B24D9/08 , Y10S451/921
摘要： 该工具包括：一具有一横向端面(113)的刚性支架(104)；一贴靠并覆盖所述端面的可弹性压缩的界面；一适于贴靠光学表面的软缓冲垫，该缓冲垫贴靠并至少部分覆盖与所述端面(113)相反并与该端面相正对的界面；使该支架(104)与横向位于端面(113)以外的软缓冲垫的周边部分连接的弹性回位部件(115)；以及一属于一底座(130)的柔性环状体(131)，所述刚性支架(104)也属于底座(130)，其由所述环状体(131)包围。
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公开(公告)号：CN101351300A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200680049625.0
申请日：2006-12-20
申请人： 埃西勒国际通用光学公司
摘要： 一种用于光学元件的抛光机，包括：设置为旋转驱动光学元件的心轴；相对心轴可动的抛光工具；设有门的前表面，以允许通到心轴和抛光工具；其中抛光机安装在体部上，所述体部通过第一轴线旋转安装在滑动装置上，所述滑动装置与所述前表面基本垂直。
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公开(公告)号：CN101351299A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200680049637.3
申请日：2006-12-26
申请人： 埃西勒国际通用光学公司
摘要： 一种用于光学元件的抛光机，包括：设置为旋转驱动光学元件(4)的心轴(3)；相对心轴可动的抛光工具(5)；其中抛光机还包括安装在工作室(2)顶部的平台(41)，工作室包括心轴和保持体部的平台，抛光工具安装在该体部上。
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